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中国市场至关重要!光刻机巨头不顾美国施压

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

而就在今天，荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示，中国市场至关重要，若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备，全世界范围内的半导体市场供应链将会中断

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光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

所以，我们认为 ASML很难离开 DUV光刻机，特别是中国， DUV光刻机主要集中在中国，而 DUV光刻机也是中企最关心的问题， ASML很有可能会在 DUV上取得重大的进展，一旦 ASML退出，那么结果可想而知

我们认为，在今年的一季度，我们认为，这不仅仅是偶然，而是 ASML在技术层面上，在市场层面， ASML也感受到了巨大的压力

中芯集团最近公布了一份新的产能，共计340000块12寸的芯片，而 DUV的光刻设备，就是最好的选择

我们前面说过， ASML很清楚获得这个市场是多么困难，以及一旦丧失了它所带来的影响，我们可以看出，荷兰后来又一次地重申，他们将维护自身的权益，并且拒绝接受美国的要求，而荷兰对外贸易和发展合作部长则说，荷兰将对 ASML公司出售给中国企业的问题作出自己的判断

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目前的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展，获得了大量的利润，进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发，从而形成一个良性的循环

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了

如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%

目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的

另一个DUV光刻机，可以制造7nm以上的芯片，其中的DUV是深紫外光的意思，使用193nm波长的光源

所以很明显，我们的超分辨率光刻机的光源波长，要比他们大很多，这是因为技术原理上的差异导致的

超分辨率光刻机的工作原理是这样的，它采用表面等离子体超分辨光刻（surface plasma），也叫表面等离子超衍射光刻，是最近十几年兴起的一种新技术

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EUV有多耗电？由于EUV光源的能源转换效率只有 0.02% 左右，所以输出功率只有250W的EUV光刻机，实际需要0.125万千瓦的电力，耗电量是DUV光刻机的10倍以上

这样下来，一台EUV一年耗电量可达到1000万千瓦时

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可一旦事情发展到了这一步，那美国就会成为最大的赢家，对此，荷兰清楚地知道其中的利弊

现如今，中国正慢慢成长为荷兰最大的贸易伙伴，双边贸易量逐年递增，表明两国之间合作不但前景光明，而且好处也很多

总之，荷兰现在拒绝配合美国对华封锁计划，至少能够让我们确定一点，那就是荷兰在中荷经贸关系密切的情况下，短期内不会改变对中国的态度

那么EUV光刻机技术，能够一直卡住芯片制造企业的脖子，让大家无法拒绝么？并不是的，只怕到2nm时就要走到尽头了，无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了，到这些工艺时，EUV光刻机也光刻不了，要更换新技术了

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也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

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全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机，这确实足以让ASML傲气十足

然而，随着形势的发展，ASML的态度开始转变了，对我们和对美方都在变化

光刻机是芯片制造过程中不可缺少的核心设备，它之所以被称为人类工业皇冠上的明珠，主要是因为它集成了全球多国多项最高端的技术，所要求的精准度非常之高

不仅如此，前段时间ASML的总裁还直接表示，继续限制光刻机卖给中企，5年内他们将掌握所有EUV光刻技术，15年之后ASML或将失去行业话语权，后果非常严重