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根据媒体报道，荷兰正计划跟上美国，对中国出台半导体出口管制措施

虽然具体的细则暂不明确，但不大可能比美国的更严

光刻机是芯片制造中过程中最重要也是技术含量最高的设备，总部位于荷兰的阿斯麦（ASML）几乎垄断了全球高端光刻机市场，整体市占率约 75%

指望荷兰官方和 ASML 作出更大让步的可能性不大

中国市场贡献了 ASML 15% 左右的营收，如果禁令范围继续扩大至低阶一些的深紫外（DUV）光刻机，客户们会转而投向尼康、佳能等日系厂商

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日本尼康光刻机工厂日本地址

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全球光刻机市场格局示意图在这之中，荷兰的阿斯麦尔公司主导高端市场，日本的尼康和佳能则占据了低端市场的大量份额

那么，这只让“两家独大”的光刻机，到底有多难造？光刻机为何如此难造？其实对于光刻机为什么这么难造的问题，我们可以用第五代EUV光刻机为例子，来找找原因

光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美

据美国彭博社7月6日报道，美方知情人士透露，美国正在向荷兰政府施压，要求该国的半导体制造商阿斯麦公司（ASML）禁止对华出口生产全球大量芯片所需的的主流设备

彭博社指出，美国是以此扩大遏制中国崛起的行动

资料图报道称，华盛顿方面要求荷兰方面实施的限制措施，将使现行的向中国出售最先进设备的限制范围进一步扩大，此举旨在阻挠中国成为世界领先的芯片生产者

ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益

IT之家了解到，ASML 主导着光刻系统市场，客户包括所有主要芯片制造商，其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户

ASML 公告称，截至 6 月 30 日的三个月，公司收入为 54.3 亿欧元（约 374.67 亿元人民币），高于 2021 年同期的 40 亿欧元；净利润为 14.1 亿欧元（约 97.29 亿元人民币），高于去年同期的 10.4 亿欧元

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这玩意有多复杂？一台EUV光刻机重达180吨，零部件高达10万多个，超过2公里以上的软管，需要40个集装箱来运输，仅安装调试就需要一年左右

而且85%以上的材料，都来自全球超过5000家供应商

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而ASML采用的则是一种激光干涉仪，精度非常高，有着位移测量的能力，可以实现出纳米级的同步运动，非常精密，这样的技术就是美国也没有办法做到

可见光刻机的建造难度极大，而其的建造，也代表着现如今最完整的高尖端工业体系，代表的是一个国家真正的科技力量，和真正的工业实力，因此是不容小觑的

简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势

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以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

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正被台积电、佳能等下注

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另一个DUV光刻机，可以制造7nm以上的芯片，其中的DUV是深紫外光的意思，使用193nm波长的光源

所以很明显，我们的超分辨率光刻机的光源波长，要比他们大很多，这是因为技术原理上的差异导致的

超分辨率光刻机的工作原理是这样的，它采用表面等离子体超分辨光刻（surface plasma），也叫表面等离子超衍射光刻，是最近十几年兴起的一种新技术

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

而就在今天，荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示，中国市场至关重要，若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备，全世界范围内的半导体市场供应链将会中断