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未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高NA EUV光刻机

作为制造芯片最先进的设备，光刻机的先进程度等直接决定了芯片的制程工艺

目前来看，荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机，且产量非常少，价格贵

自2017年ASML第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产都是依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产

要知道，目前公开称有5nm芯片制造能力的只有台积电和三星两家

当地时间周五（11月25日），荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判

近年来，美国在对华政策上实行胁迫外交，多次施压其盟国限制如光刻机等高科技产品等出口

其中，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）因为在芯片行业中占据极其重要的地位，成了美国政府的重点“关照”对象，该公司占全球光刻机市场份额的60%以上

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其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限，如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

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于是，在封杀多年后，ASML 光刻机，重新出现在中国大陆

由上海建工四建集团承建的临港重装备 F16-01 地块，近日举行了鼎泰匠芯洁净室交付仪式，首台 ASML 光刻机搬入

该项目于 2021 年 7 月开工，建成后将成为中国首座 12 英寸车规级功率半导体自动化晶圆厂

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ASML公司研发出了双工作台，在一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

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光刻机知识产权

ASML：不放弃中国市场！众所周知，芯片制造离不开光刻机

尽管最近一段时间ASML成为了美国施压的对象，但其实ASML一直都在提升对国内市场的出货能力

比如，今年第一季度ASML就出货了23台DUV光刻机，国内市场一举超过美国，成为ASML第三大市场

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自2018年以来，在美国的压力之下，荷兰政府一直禁止阿斯麦向中国出口其最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）

资料图然而，美国希望进一步打压中国芯片行业，将DUV也纳入禁售范围

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挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高

众所周知，制造半导体离不开光刻机，而光刻机是人类文明智慧的结晶，有着“光学工业之花”以及“半导体工业皇冠之上的明珠”等诸多美称，上述美称集中反映了制造光刻机的技术难度

据悉，光刻机的制造涉及精密光学，超高分辨率仪器、自动化工业设计软件、高分子物理与化学等当今最为前沿的科学技术

众所周知，在芯片制造中，光刻机是必不可少的设备

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻机是必不可少的设备，而EUV光刻机仅ASML一家能够生产，所以一直以来ASML都是保持着自己的节奏，不多生产

这样EUV光刻机就是卖方市场，ASML说了算，三星、台积电、intel等厂商，要从ASML这里抢，才能够买到，价格还高高在上

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