滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。

而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限，与ASML的技术路线完全不同，不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局

当然，研制出这款超分辨率光刻机，并不意味着我们已经实现了弯道超车，否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况

例如，该光刻机已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平

而双边的这一正常的商业往来却引起了美国方面的忌惮，美国方面多次派人前往荷兰进行施压，要求荷兰不得向我们提供光刻机，但是屡次遭到了荷兰的拒绝

荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔公开表示，在对华提供半导体设备上， 荷兰将会坚定地捍卫自己的经济利益

阿斯麦公司（ASML）目前在全球先进芯片的制造设备方面的建树很大，该公司一家就占了全球光刻机市场六成的份额，并且该公司也是全球一家能够供应7纳米以下芯片所需EUV光刻机的公司

而这样大的公司与我国的合作程度也很深，目前我国是阿斯麦的全球第三大市场，占该企业每年营业额的14.7%，大约是27亿欧元左右，因此中国市场对于阿斯麦来说也非常重要

读写速度快，很好用，读写速度快，质量好，价格实惠，物流快，非常满意的一次购物。

上半年美国模拟芯片、射频芯片等企业纷纷表示库存高企，为了清理库存主动降价九成求售；到了下半年两大手机芯片企业联发科、高通、NVIDIA、AMD都陆续砍单，显示出芯片过剩的情况正向更多行业蔓延

随着这些芯片企业砍单，全球最大芯片代工厂台积电也开始受到影响，台积电开始关闭部分EUV光刻机并让部分员工休无薪假期，这意味着芯片供给过剩的情况开始影响到整条芯片产业链

读盘速度：读盘很快，速度很美，相当不错 读盘声音：很安静，振动也很小，不错！ 稳定性能：长时间使用，经常用，能稳定运行两年多，前一个也是这一款！ 轻薄程度：台式机用，厚度固定了，这个无所谓了！ 外形外观：外形就那样，台式机光驱没有啥特别的外形！ 产品包装：包装很好，外面是个纸箱，里面是商品的包装，有减震

京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

光刻机是一个很大的产业链，国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰，估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展，了解到纯中国产的先进光刻机即将量产，所以ASML才在今年一季度加紧出货，近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了，这是中国芯片产业链值得高兴的事情

中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业

一直想弄个刻录机，在华硕和先锋两个品牌面前打转，不知道选哪个，以前用的CD和DVD都是先锋的，有点点情节，先锋的质量非常好，希望现在的也一直保持着当年的光彩，这款支持4K，功能全面，果断下手，要弄就弄个好点的，未来说不定需求都要，做工非常了得啊！质感很好！支持先锋！

步进扫描光刻机的优点

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势

所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

尼康光刻机镜头作用

ASML即将推出新一代光刻机

面对这种现实，我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线，不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中

华虹计通股票有光刻机

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

试图遏制中国芯片产业发展

　　一台光刻机所集结的是美国的光源设备、德国的蔡司镜头、日本的光学技术和台积电与三星提供的制程技术，光说一个蔡司镜头就是需要几十年甚至上百年的技术沉淀和不断测试才能做到的，我国光刻机紧追慢赶从90nm到29nm就用了18年

　　还有消息人士透露，美国曾试图对日本施压要求其停止向中国芯片制造商运送同样的技术

芯片这东西，就是电子产品最核心的东西，放在汽车上等同于发动机，是一切的核心

随着科技的发展，手机也越来越先进，拥有的功能也越来越多，对于芯片要求也越来越高，芯片承载负荷也随着增高，所以就需要更强大的芯片

而制造芯片，一定要用到一个机器，那就是光刻机

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

这样的技术不仅可以用于DUV光刻机，还可以用于EUV光刻机