滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

有了出色的国产工业软件后，中国在日后的半导体工业发展上将呈现出一个飞跃，这也是为什么中国要坚持一步一个脚印地走完光刻机研制的全部历程，当然俄罗斯现在宣布研制也是亡羊补牢未为不晚，起码能够在半导体工业自主化上迈出重要的一步

相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机，中国则是未雨绸缪，很早就开始决定自主研制光刻机了，同时中国在这方面起步其实并不晚，在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步，拿得出来并不落后的光刻机

之所以会在日后慢慢落伍，中国与俄罗斯都有着相同的一点，那就是在软件上有着制约

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

如上图所示，这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分，分国上、中、下游三个部分

第一台光刻机发明之前

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意，很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，送货师傅服务态度很好，送货速度很快，很满意！

台积电光刻机发明林

国产芯片国产光刻机开始突破作为芯片制造产业中最重要的一环，光刻机的作用自然非常重要

伴随着芯片产业链上的其他设备如蚀刻机等已经突破至5nm，国产芯片产业也愈发完善，而光刻机也成为最后一个需要攻克的技术难关

光刻机技术取得突破其实国内对于光刻机同样十分重视，早在2006年就开始实施《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，其中光刻机在16个重大专项任务中排名第二，因此也被称为“02专项”

读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。

不管是台积电，还是三星，或者intel，都不敢也不能得罪ASML，否则不卖EUV光刻机给你，就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法，到2025年时，ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机，型号会是NXE:5200，其采用的数值孔径会达到0.55NA，数值孔径越大，精度越高

宝贝包装严实，物流很快，运转起来也比较流畅， 复制光盘上的文件很好，总体感觉不错，有需要的 可以下手啦！

说起EUV光刻机，大家都非常熟悉了，这是生产7nm及以下芯片时，必须使用的光刻机

之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。

阿斯麦光刻机多少钱

国产光刻机的漫漫长征路

缺芯浪潮仍未得到切实缓解，根据汽车行业数据预测公司AutoForecast Solutions（以下简称为AFS）的最新数据，截至7月31日，由于芯片短缺，今年全球汽车市场累计减产量约为281.02万辆

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

光刻机巨头ASML:限制对华出口DUV

而中国是全球最大的半导体设备市场，阿斯麦这样的供应商自然无法忽视

当前，国内成熟制程扩张催生了大量设备需求，阿斯麦与国内企业存在广泛合作

国际半导体产业协会（SEMI）发布的数据显示，2021年，中国大陆连续第二年成为全球半导体设备的最大买家，支出激增58%至296.2亿美元

与此同时，阿斯麦CEO温彼得透露，由于劳动力、能源和材料成本的上升，该公司可能会提高半导体设备的售价，这将是阿斯麦首次采取这样的举措，目前该公司正与客户和供应商“讨论”，以找到一种“公平的方式”来分担成本上升的负担

非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。

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众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢