滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

　　基础实力差，加上外国这样的“绊脚石”，让中国不得不主张自行研发

　　1977年，历经10年之久的中国经过自己的不懈努力，上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机

　　这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐，然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年，并且就在同年，美国再次推出了真正的自动化光刻机

　　其次，就算拥有了精密的零件制造业基础，在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题，因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出

专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

张忠谋表示对此十分期待，他已经邀请重要客户和美国的一些官员，他说：“据我了解，美国商务部长已经答应来了，这个很难得，商务部长从华盛顿飞到亚利桑那，听说当天就要回去，这是整整一天的行程，大概飞行时间单纯就要6小时左右，来回12个小时

”荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔当天表示，在向中国出售芯片设备的问题上，荷兰将捍卫本国的经济利益

这意味着荷兰在光刻机出口问题上释放出重要信号：不再照搬美国的禁令

发言也给出了原因，担心极紫外光刻机成为美国人的“盘中餐”，而这些设备是荷兰高端制造的代表

大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。

中国市场已是它最后的救命稻草

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场，韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场，它们目前都希望中国企业采购更多芯片，帮助它们解决芯片库存，确保现金流，为此甚至不惜大举降价抛售，与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比，这不免让人感叹一年河东、一年河西

三星的3nm工艺表现较好，但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低，导致成本奇高，失去经济价值

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ASML表示，他们计划将产能增加到 90 个 EUV 和 600 个 DUV 系统（2025-2026 年），同时还将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统（2027-2028 年）

与2021年42套EUV系统销量相比，相当于EUV光刻机产能直接增加210%+了，这应该是ASML拿出来的最大诚意了

还行，挺不错的，之前公司的让我弄坏了，自己买了一个赔给公司。测试了所有功能，一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快，态度也很好，好评！

正是由于这样的原因，才让中国的芯片制造企业起色一直不太好，而美国方面的打压，也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期，但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破，甚至在美国打压的那段时间，我们发动的科研人员，国家企业，以及很多民营企业做共同的努力，所以最后的成效，虽然比较好，但是想要赶上发达国家还是不太可能

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另辟蹊径，一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）

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中国不但拥有丰富的自然资源，同时还有完备的基础设施，同时还是全球最大的消费电子市场，无论从哪个角度考虑都不可能将其排除在全球芯片产业链之外，否则所造成的负面效果将难以估量

彭博社介绍称，极紫外线（EUV）光刻机是阿斯麦生产的高端芯片制造设备

施赖纳马赫尔当时表示：“我们会做出自己的评估——我们是在与日本和美国等伙伴国家磋商后做出这一评估的

”她同时提到：“我们的出口许可政策已经有了限制

美方将科技和经贸问题政治化、工具化、意识形态化，对别国搞技术封锁、技术脱钩，其用心人尽皆知

企图堵别人的路，最终只会堵死自己的路

我们希望有关方面秉持客观公正立场，从自身长远利益和国际社会根本利益出发，独立、自主地作出正确判断

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　　金春水说：“我们建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平

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