中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用,并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术;上海微电子研制的28nmDUV光刻机,就可以用来进行14nm芯片的生产
别看这14nm好像还差得远,要知道,平时我们虽然听什么14nm、7nm甚至是3nm听多了,对芯片的技术失去了概念,但其实只要跨过 28nm制程这道难以逾越的墙壁,那就算是排在世界尖端的水平了
在早些年的时候,人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏,很多资本家已经把视线放在光刻机上了,他们不惜耗费大量的资金,主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹