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2018年11月29日,中科院光电所宣布,由我国科研人员自主研制的首台利用紫外光源实现22nm分辨率的光刻机成功现世
这个消息意味着我国在微电子技术领域迈出了坚实的一步,进一步缩小与西方企业的技术差距
在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工