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换句话说，只要假以时日，愿意投入资金去研发，是都可以研发出来的

例如我们国产光刻机，早就已经实现了DUV光刻机的量产

EUV光刻机与DUV光刻机的关键不同，是光源的不同，EUV光刻机的光源波长更短，制造难度很大

先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意

台湾芯片教父张忠谋我们常说芯片是全世界半导体供应链合作的结晶，那为什么中国作为世界主要经济体和最大的芯片市场，反而处处受压制，美国却能掌控全球的半导体产业链，想打压谁就能打压谁呢？面对这个问题我们需要从接下来好几个方面来寻找答案

读盘速度：8倍速，刻录DVD筋速度比较快 读盘声音：静音，不错 稳定性能：用了2个月，没有发现问题，以前给朋友买过，用了5年还在用 轻薄程度：很轻薄，轻巧，很薄 外形外观：黑色，真心不错，好看 产品包装：简单实用 京东商城非常给力，送货上门非常快，快递哥服务态度好，热情周到。

其实在我认为，这个消息不但没有说明asml顶住了美方的压力，反而说明了这是美方打压我们半导体业务的另一个手段，asml被利用了

研发光刻机这种高精尖设备，投入资金大、投资回报时间长，一般的民营企业很难主动参与进来

asml的光刻机在研发过程中，也多次获得了欧盟和荷兰政府的支持

??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

根据日经新闻等多家媒体报道，ASML首席执行官温彼得（Peter Wennink）公开表示对禁售DUV光刻机的决定将对全球芯片产业造成巨大的影响（I think we need to realize that China is an important player in the semiconductor industry, especially in the more mainstream semiconductors）

后者的DUV光刻机则处于可以销售的状态，其原因一方面是国内的光刻机制造厂商同样能够制造出45nm的DUV光刻机并正在攻关更新进制程的DUV光刻机，禁售意义不大；另一方面则是国内作为全球重要的芯片制造基地之一，确保对国内芯片厂商的DUV光刻机供货实际上也是缓解全球芯片不足的重要举措

报道称，美国政府希望通过此举限制中国芯片代工企业的产能，同时防止中国在自主光刻机领域取得技术突破

据了解，DUV光刻机虽然不如EUV光刻机先进，但也是目前半导体代工企业使用频率最高的光刻机之一，在7纳米及以上工艺制程的芯片生产中，DUV光刻机的普及率远远高于EUV光刻机

中微公司有研发光刻机吗

日本光刻机产能加倍计划抢夺中国更多市场份额

其实日本的光刻机企业也有深厚的技术积累，在2005年之前，日本的佳能、尼康占有光刻机市场八成的市场份额，不过当时它们力推的是干式光刻机技术，干式光刻机技术逐渐达到瓶颈，台积电恰在那时候研发出了浸润式光刻机技术，而日本企业不愿失去已有的利益，将机会让给了ASML

给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽，ASML正陷入窘境，这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML，然后日本再施加压力，台积电等无力大规模采购EUV光刻机，最终导致了ASML陷入如今的窘境，可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

ASML 公告称，截至 6 月 30 日的三个月，公司收入为 54.3 亿欧元（约 374.67 亿元人民币），高于 2021 年同期的 40 亿欧元；净利润为 14.1 亿欧元（约 97.29 亿元人民币），高于去年同期的 10.4 亿欧元

IT之家 7 月 20 日消息，光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据

ASML 表示，净利润较高的原因是新订单量创历史新高，因为尽管有迹象表明销售放缓，但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备

根据路孚特数据，ASML 第二季度收入超过分析师预期的 52.8 亿欧元，而利润低于预期的 14.4 亿欧元

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高

说起EUV光刻机，大家都非常熟悉了，这是生产7nm及以下芯片时，必须使用的光刻机