滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

众所周知，目前5nm及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的EUV光刻机，ASML是全球唯一的供应商

而更为尖端2nm制程的则需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻机，售价或高达4亿美元

英特尔正计划利用新一代0.55 NA EUV光刻机来开发其Intel 20A（2nm）及18A（1.8nm）制程

办公用品，很好的，服务好，速度快，大品牌，有质量保证，开票及时，便宜，完美！3月份生产的，新鲜！

这也是为什么其技术难度高的原因，一个看似简单的原理，在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术，才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械

光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题

因此，长期没有对手的阿斯麦，在面对芯片研发领域，目前实力较弱的中国企业时，才会认为中国企业永远都不可能是阿斯麦的对手

特别是现如今西方国家也对我国进行“技术封锁”，这也导致即使我国有进口光刻机，流入我国的也都不是顶级光刻机，自然，即使我们通过对进口光刻机进行研究，也是很难掌握最核心、最顶级的技术

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场，韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场，它们目前都希望中国企业采购更多芯片，帮助它们解决芯片库存，确保现金流，为此甚至不惜大举降价抛售，与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比，这不免让人感叹一年河东、一年河西

三星的3nm工艺表现较好，但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低，导致成本奇高，失去经济价值

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

自然要响应美国的政策，但是现如今经营出现问题，假如不向中国大陆出口DUV光刻机甚至面临破产危机，也就顾不上家国情怀了

其次则是光刻机零件上万，部分只有美国可以生产，因此美国与ASML可以说是相互依赖的关系

但是近年来我国加大了对于光刻机产业链的研发，像是上海微电子更是突破连连，中国产业链相对完善，现如今完全可以满足ASML的需求，因此ASML才有了跟美国撕破脸的底气

由于没有EUV光刻机，中国在先进制程芯片市场的占有率并不高，但是在中低端芯片市场，拥有极高的份额

例如新能源汽车、机器人以及其他不需要先进制程芯片的产品，中国国产芯片完全可以满足自身的需求，甚至还可以向海外国家的企业供货

做工不错，手感很好，刻录功能还没使用，应该用到的机会不多。平时主要用于读DVD盘，便携性很好。 纸盒包装上还有温馨提示，再次核对型号是否正确，方便退换货，很人性化。

由于无法向中国出口EUV光刻机，导致阿斯麦公司损失了数十亿美元，如果继续扩大对华禁售范围，阿斯麦公司以及荷兰面临的经济损失会更大

分析认为，荷兰高级官员的表态说明，荷兰不愿一味地顺从华盛顿切断中国半导体技术供应的企图

需要说明的是，阿斯麦的机器是在欧洲生产的，很少使用美国的零部件

根据阿斯麦的财报，中国大陆是其全球第三大市场，该公司2021年在中国大陆的销售额超过20亿欧元，约占其总销售额的16%

京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐

当地时间周五（11月25日），荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判

ASML公司发言人就有关消息回应称，“这种讨论并不新鲜

”报道提到，ASML是全球最大的光刻系统制造商，光刻机是半导体制造过程中的关键设备

ASML在此类设备的市场处于主导地位

彭博社介绍称，DUV这类老一代机器的性能不如更先进的EUV光刻设备，但在目前许多严重短缺类型的芯片的制造过程中仍然不可或缺

读盘速度：读盘快速读盘声音：安静稳定性能：非常稳定外形外观：外观不错，即插即用，方便，静音，做工精良。很实用

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义

2019中国光刻机

前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机

而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的

那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行