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上海官方前不久已正式确认，90nm国产光刻机已经取得突破，而上海微电子自研的28nm浸润式光刻机也即将完成技术认证

这意味着，在中低端光刻机市场，ASML将不再是唯一的选择

也许同类的国产光刻机设备暂时还不如ASML的好看好用，但在关键时刻进行替代却也是绰绰有余

对于正处爬坡破冰阶段的国产芯片而言，这无疑是个好消息

从短期看来，有了ASML的光刻机设备的支持，国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域，产能和良率都能够得到有效的保障，有助于我们进一步降低对美芯的依赖

质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用

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中国的光刻机生产技术

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众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D

芯片制造是一个非常复杂的流程，涉及到几十种设备，上百道工序，主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分

单晶硅片涉及到各种半导体材料，目前国内整体半导体材料的自给率不足20%，特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低，高度依赖国外进口

还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0

后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

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由此不难看出，国产芯片若想摆脱“卡脖”，就必须弥补光刻机等垄断设备材料方面的短板才行

也正是因此，中科院、华为等国内机构企业接连“下场”，纷纷加大了在光刻机设备领域的自主研发

但光刻机的研发难度不亚于“原子D”，西方国家企业也没有谁看好我们能以一己之力造成光刻机

既然，光刻机这么难买，中国自己研究出来自己用不行吗？那么是否定的，了解光刻机的都知道，光刻机是由光刻机、刻蚀机、离子注入机、镀膜机等组成，蔡司镜片、遮光器、能量探测器等由5000个多个小器件组成，分别来自于不同的国家，其中蔡司镜头的制作工艺及其严格，一个镜片就由50层组成，而且镜片表面做得很光滑（制作要求非常高），中国虽然是世界第二大经济体，具有丰富的财力支持，但是光刻机不单单靠财力就能研究出来的，还需要靠浓厚的知识储备和顶尖的科技水平，这些中国还不能够达到，所以要想自己研究光刻机是非常困难的，而且也要投入大量的人力、物力、财力，研究起来也是艰难重重

是不是看起来，阿斯麦公司更像一个系统集成商？但是，如果想要组装一台光刻机，也不是随便哪个厂商就能做到的

比如光刻机里的镜头，在组装过程中，为了达到仪器能够检测、分辨的最小值

需要将多达数十个光学镜面按照设计要求严格排列，每一个透镜的位置、姿态、间距都有严格的要求

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

光刻机流程

但是技术并不完全在阿麦斯手里，因为美国率先完成了原型设计和技术积累，一些零部件，阿麦斯需要从美国购买

那么只要使用了美国的零部件，美国不许出口，阿麦斯就不能出口，否则就断供零部件

而在7-14纳米芯片领域，所需要的光刻机叫做深紫外光刻机，属于“次顶配”，能够生产大部分主流芯片，这种光刻机阿麦斯掌握了全部技术，不依赖美国，不担心被美国制裁

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

如今asml却供应给大陆一台光刻机，我个人认为这是跟前段时间上海企业宣布在14nm芯片上面取得技术突破有很大关系

西方国家准备再一次通过技术解禁的手段，来打压我们的技术发展

国务院新闻办公室网站我国半导体业务的晶圆代工和芯片设计属于两大难点，尤其是在晶圆代工业务的发展上面，西方国家的技术专利以及设备材料对我们来说是一个很强大的壁垒，许多高新技术都掌握在西方国家企业的手里面

正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件

光刻机是一个很大的产业链，国产光刻机产业链的进步自然无法完全被掩饰，估计ASML也是看到了国产光刻机产业链的快速发展，了解到纯中国产的先进光刻机即将量产，所以ASML才在今年一季度加紧出货，近期美国限制ASML给中国供货14nm以下的光刻机估计也是认识到中国已很快突破到14nm光刻机了，这是中国芯片产业链值得高兴的事情