光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...
国产光刻机技术有了新进展了!老狐最近得知,华为公布了自研光刻机的部分技术专利
根据专利显示,华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利,而是 EUV 光刻机其中一部分的专利
该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”,匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题
据悉,建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程
项目完成后,可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片,主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品