相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机,中国则是未雨绸缪,很早就开始决定自主研制光刻机了,同时中国在这方面起步其实并不晚,在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步,拿得出来并不落后的光刻机
之所以会在日后慢慢落伍,中国与俄罗斯都有着相同的一点,那就是在软件上有着制约
一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局,选择的电子管微型化路线,显然是不适用于集成电路发展的,所以在集成电路的竞赛上,美国取得了方向山的胜利,这让美国将优势保持到了今天
7nm光刻机的工艺难度并不低,这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来,俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了