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读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

不过，高端光刻机市场仍是ASML一家独大

第三方数据显示，2021年ASML共出货高端光刻机（EUV、ArFi、ArF）145台，占据95.4%的全球市场份额，EUV市场占有率达到100%

尼康展出的半导体设备信息 拍摄/观察者网 另外，观察者网在本届进博会技术装备展区看到，包括泛林、科天、高通、三星、AMD、德州仪器、瑞萨等全球知名半导体厂商也纷纷亮相，部分公司更是连续多届参展

从路线图来看，TWINSCAN EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产

国外曾有分析师直言，“我敢打赌，英特尔为这一权利花了很多钱，因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实

asml光刻机下半年量产5nm

如今新冠疫情趋稳，半导体供应链也迎来了步入正轨的时机，在此背景下，美国政府理应与全球半导体产业大国相向而行，响应众多企业确保半导体供应链稳定的积极倡议，共同维护行业的健康发展

而不是为了一己之私，图谋禁止向中国出口DUV深紫外光刻机，从而再次扰乱全球半导体供应链，这种背道而驰的行为，必然会遭到国际社会的唾弃

据悉，目前包括韩国三星、SK海力士以美国的英特尔等半导体产业巨头，均在中国有工厂

如果禁止向中国出口DUV深紫外光刻机，中国大陆晶圆代工厂以及海外国家在华企业的产能，必然会受到限制，届时全球半导体供应链肯定紊乱

国内要靠自己了

下单没隔多久就收到了，快递速度非常快，这是选择京东购物的一个原因，第二个原因就是在京东购物正品，有保证，货物包装严实，小巧玲珑，看起来非常高端，大气上档次，使用起来效果更是满意。读盘速度非常快，性能稳定

而后据外媒体援引与会人士的消息，2022年12月9日，美国与荷兰拟议中的对华半导体出口管制谈判结果初定

荷兰已同意与美国加强合作，共同限制中国企业取得先进芯片技术的管道，把对中国半导体的出口管制法规化，从而与美国10月7日出台的一系列半导体出口措施保持一致

买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度：8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音：很小 稳定性能：供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度：正常光驱大小 产品包装：完好、简洁 需要还会光顾?

华特气体光刻机

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题

所以这就是美国为什么能让荷兰对华禁售DUV、EUV光刻机的主要原因——ASML的EUV光刻机的实际控制方是美国而非荷兰

因此，ASML也被行业称为“半个美国公司”

实际上，美国要求荷兰ASML禁止出售光刻机给中国芯片制造企业，始于前任总统特朗普时期

尼康duv光刻机

不过，ASML针对自由出货不愿意再妥协了——近日，由上海建工四建集团承建的临港重装备产业区F16-01地块项目，举行了鼎泰匠芯洁净室交付ASML光刻机搬入仪式

该项目于2021年1月开启，同年7月正式开工，建成后将导入荷兰安世半导体技术打造国内第一座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心，对临港新片区建设世界级的电动汽车全产业链具有重要意义

不再向美限令妥协!首台ASML光刻机已搬入中企

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

根据阿斯麦透露的信息来，他们的新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成，顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机

而且新一代EUV光刻机售价要比目前的EUV光刻机翻一倍，目前EUV光刻机的售价大概在2亿美元左右，而新一代EUV光刻机售价高达4亿美元

挺不错的，物美价廉到货快，之前在京东买过两台同款的，确实很不错，这次趁活动再买三台囤着备用，还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟，然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后（没飞过盘，只是刻录速度变慢），实体店买过两台某星的，那真是一塌糊涂，各种飞盘，刻录出来的数据面颜色都不均匀，也很难读取，没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了，就买回先锋的，就这款，刻录声音很小，出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了，但质量确实没有缩水，这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的，应该还会再买。

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了

众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备

而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7-180nm

还有UV（i-line）光刻机，主要用于0.35um工艺