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在高精度光刻机的市场份额上面，asml公司遥遥领先于尼康和佳能

留给尼康和佳能的市场空间，大部分都是比较老旧的制程工艺产品

对于先进制程工艺的产品来说，一般都是消费级别的电子产品需求最大，比如手机、电脑、平板等产品

很好用，稳定实用，磨砂外壳也不易沾染指纹。很不错！性价比高！买一个装着说不定用得着。虽然现在用光盘概率很小。。。

先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上

所以目前台湾省内很多媒体，对台积电也不太满，觉得岛内对台积电扶植过度了，毕竟台湾省幅员狭小、能源有限，而台积电高耗电、高耗水量，对居民用电、电水造成了紧张

同时目前台湾省本身资源紧张，电力供应紧张，新增的电量，很多往台积电倾斜了，还未必能够满足台积电未来产能扩张的需求，让大家对未来担忧

为此，台积电也在努力想办法，比如自己去买电厂，解决供电问题，还直接与一些电站签订采购合同，确保电力供应，甚至还不得不将产能转移至美国等地，缓解供电危机，但一年190多亿度电，需要100多亿元的电费，让台积电也是很头痛

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

ASML当时还在生存线上挣扎，听闻了台积电的林本坚研发出光刻机技术之后找上了台积电，双方一拍即合，随后浸润式光刻机迅速风行，到2008年ASML一跃成为全球最大的光刻机企业

中国有全世界最大的终端市场，最活跃的应用市场，而终端市场、应用市场反过来可推动上游设计、制造方面发展创新

”他说道

实际上，在本届进博会上展示光刻技术的不止ASML一家，包括尼康、佳能等日本厂商也展示了光刻机、FPD曝光机和蒸镀机等光学半导体产业设备的应用

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

中国光刻机为什么

很好。安装好后一点就亮！先锋的就是好用！不挑碟的机子！一直信赖着。还以为它不会出新产品了呢！?赞！

据日媒报道指日本的光刻机企业佳能已开始建设新的光刻机工厂，此前尼康计划倍增光刻机产能，这两家日本光刻机企业均大举扩张光刻机产能，目标无疑都是中国市场，它们均希望从中国市场斩获更多光刻机订单，此举无疑让光刻机巨头ASML慌了

近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 (APM) 技术的公司Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”，其并没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有0.768nm线宽（相当于2个硅原子的宽度）的芯片，精度远超EUV光刻机

超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。

6个月可交货

前几天卖了2部先锋刻录机很好用，刻录光盘快，很好。先锋大牌声音很轻，感觉稳稳的，现在很少有上翻盖的光驱了，不错

光刻机行业标准

物美价廉，性价比高，下次还买了，读盘速度：非常块读盘声音：非常小稳定性能：稳定性能：非常 稳定

原子弹与光刻机有着本质上的区别，一个要的是能“炸响”，一个要的是能“用”！原子弹只要能够提取出关键的原料，就能造得出来，而光刻机则不一样，一个国家凭借自己的力量真的很难造出来

以ASML公司制造的EUV光刻机为例，其所需的10余万个零部件，来自35个国家的5000多家企业，如光源来自美国、光学设备来自日本、镜头来自德国、轴承来自瑞典等

可以的，声音小振动也小，支持的格式全面，试刻了一张CD很满意；还专门试了下DVD -RAM格式，也是支持读写的；颜值手感都很在线！就看寿命了，暂时是推荐购买的?

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货

既然，光刻机这么难买，中国自己研究出来自己用不行吗？那么是否定的，了解光刻机的都知道，光刻机是由光刻机、刻蚀机、离子注入机、镀膜机等组成，蔡司镜片、遮光器、能量探测器等由5000个多个小器件组成，分别来自于不同的国家，其中蔡司镜头的制作工艺及其严格，一个镜片就由50层组成，而且镜片表面做得很光滑（制作要求非常高），中国虽然是世界第二大经济体，具有丰富的财力支持，但是光刻机不单单靠财力就能研究出来的，还需要靠浓厚的知识储备和顶尖的科技水平，这些中国还不能够达到，所以要想自己研究光刻机是非常困难的，而且也要投入大量的人力、物力、财力，研究起来也是艰难重重