众所周知,目前ASML是全球最大的光刻机供应商,同时也是唯一的EUV光刻机的供应商
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低,多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV 步骤代替
ASML总裁兼首席技术官Martin van den当时就表示,英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求
今年9月,台积电研究发展资深副总经理米玉杰也对外表示,台积电将在2024年取得ASML新一代High-NA EUV光刻机,为客户发展相关的基础设施与架构解决方案