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原子弹与光刻机有着本质上的区别，一个要的是能“炸响”，一个要的是能“用”！原子弹只要能够提取出关键的原料，就能造得出来，而光刻机则不一样，一个国家凭借自己的力量真的很难造出来

以ASML公司制造的EUV光刻机为例，其所需的10余万个零部件，来自35个国家的5000多家企业，如光源来自美国、光学设备来自日本、镜头来自德国、轴承来自瑞典等

荷兰ASML公司的一位高管也曾表示，EUV光刻机的研制难度非常大，部分零部件的调整，差不多要耗费十年的时间

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快

台积电和美国芯片企业都在舍弃ASML的EUV光刻机，ASML终于开始重新将目光放在中国市场，近期表示将大举扩张光刻机的产能，EUV光刻机产能将提升到90台，DUV光刻机产能增加至600台，然而它迟迟未能对中国自由出货，而中国芯片已经等不及了

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

这两种技术的结合，在一定程度上减少了先进工艺的采用，因为这种新技术不仅降低了成本，同样可以做到芯片性能的提升，本质上来说，还是因为在芯片的设计环节起到了关键作用，而现在，复旦大学在芯片的底层技术，也就是晶体管技术上实现了突破

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

读盘速度：速度很快，先锋还是很不错的 读盘声音：声音很轻柔 稳定性能：刚上机，目前来说还是很稳定的，不出意外应该会很稳定的 轻薄程度：很简洁，做工挺不错的 外形外观：京东的物流向来是很给力，外观很板正，毕竟是大品牌，还是不错的 产品包装：没有任何磕磕碰碰，盒子包装都没有划痕，很给力不错

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

事实上，不光荷兰政府拒绝买账，阿斯麦公司同样拒绝服从华盛顿的命令

彭博社就曝料称，今年以来，美国不断游说阿斯麦公司，希望后者能将对华禁售光刻机的范围扩大，连中端光刻机都不要向中国出口

但阿斯麦公司一直顶着压力没有同意，其还公开发出警告，称如果美国执意逼迫该公司停止对华出口相关设备，全球半导体供应链都将面临中断的危险

对方禁售光刻机，国内芯片厂或许会因此造不出部分芯片，然而我们如果限制出口原材料，荷兰同样无法生产光刻机

中荷斗个鱼死网破，最大受益者无疑是美国，荷兰不至于看不清里面的利害关系

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

这也是典型的技术恐怖主义

赵立坚说，在当前全球化背景下，美方一再将科技和经贸问题政治化、工具化、意识形态化，对别国搞“技术封锁”、“技术脱钩”，这只会让其他国家更加警醒

在技术上一味依靠美国行不通，这也将促使各国加快实现科技自主、自立自强

读盘非常流畅，用起来非常舒适，非常好，性能实用，外观漂亮，很好的宝贝，推荐大家来买。适用于各种领域，总结起来一个字：好！！！不好的话我是不会买的，只要我买的东西都是挑好的，只买好的有用的，非常推荐！！！

就像原子弹爆炸的原理，早就不是什么国家机密，但真正制造出一枚核弹，却不是那么容易的事情

制造光刻机有哪些困难？首先是光源问题

国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性

事实上光刻机本身就是一条相当庞大的产业链，需要双工作台、物镜系统、光源系统等诸多设备，这绝不是仅仅靠一两家供应商就能搞定的，至于专利方面，ASML仅是在中国就已申请了近5000份专利，其中已有2000份专利获得授权，它在全球市场更是拥有近万专利

尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势

所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手

面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显

目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大

而此时国内刚刚启动193nm光刻机项目，落后国际水平20多年

经过5年的艰苦追赶，终于在2007年，上海微电子宣布研制出90nm光刻机

但是由于元器件大部分来自国外，西方立刻实行了禁运，导致无法量产

2008年，“02专项”启动，继续攻关，主攻高端光刻机技术，同时鉴于之前的教训，“02专项”的重点，还有提升材料和工艺等产业配套能力