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自然要响应美国的政策，但是现如今经营出现问题，假如不向中国大陆出口DUV光刻机甚至面临破产危机，也就顾不上家国情怀了

其次则是光刻机零件上万，部分只有美国可以生产，因此美国与ASML可以说是相互依赖的关系

但是近年来我国加大了对于光刻机产业链的研发，像是上海微电子更是突破连连，中国产业链相对完善，现如今完全可以满足ASML的需求，因此ASML才有了跟美国撕破脸的底气

ASML一改往日对中国市场爱搭不理的态度，反过头来对中方市场献殷勤，令我国半导体产业看到了独立自主研发成功光刻机的可能性

荷兰为何不卖光刻机给中国

2014年，两人从阿斯麦美国子公司Brion辞职后创立XTAL，专注于计算光刻技术的发展

据悉，Brion公司是光刻计算概念的提出者，后来被阿斯麦全资收购

随后几年时间里，XTAL公司的计算光刻业务发展迅速，市场占有率不断提升，阿斯麦公司因此失去了许多重量级的客户

另外，光刻机的制造对生产环境要求相当高

正是因为如此，目前没有一个国家可以独立完成光刻机的制造

以光刻机巨头荷兰阿斯麦公司制造的EUV极紫光刻机为例，其就继承了美国、日本和德国等多个国家的技术

把禁令当“废纸”!ASML交付光刻机

首先，我国拥有着全球最大的半导体消费市场，年均进口额现阶段更是突破了4000亿美元

在美国实施芯片禁令后，国内掀起了自主造芯的浪潮，对光刻机等核心设备材料的需求规模庞大

ASML作为一家以盈利为目的的公司，自然不愿意放弃这块巨大的“奶酪”

公开资料显示，在2022年第一季度，ASML向大陆市场出口了23台光刻机，一举超越美国，成了ASML第三大业务市场

彭博社介绍称，极紫外线（EUV）光刻机是阿斯麦生产的高端芯片制造设备

施赖纳马赫尔当时表示：“我们会做出自己的评估——我们是在与日本和美国等伙伴国家磋商后做出这一评估的

”她同时提到：“我们的出口许可政策已经有了限制

”施赖纳马赫尔称，荷兰可能自行对中国采取某些出口管制措施，但她没有对此进行具体说明

荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）资料图据美媒此前报道，美国于10月7日出台一系列新规，禁止将使用美国设备制造的某些芯片销售给中国

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

不管是台积电，还是三星，或者intel，都不敢也不能得罪ASML，否则不卖EUV光刻机给你，就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法，到2025年时，ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机，型号会是NXE:5200，其采用的数值孔径会达到0.55NA，数值孔径越大，精度越高

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光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美

无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求

终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长

不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重

众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节

而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机

EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产

同时EUV光刻机成本非常高，一台EUV光刻机售价超过10亿元，最新的0.55数值孔径的EUV光刻机，价格更是超过3亿美元（20亿元）

先锋光存储产品一直是全球领先的，其实我更想购买的是DVD-ROM，因为我只用来抓取CD。从EAC抓取数据来看，读取偏移校正为6，这个数值相当低，也就是说抓取的效果是非常好的，有些光驱这个数值能达到50、60或者更高，因此这是评判一只光驱最好的维度之一。每个人用途不一样，我只是从抓取CD的角度来看是非常完美的，而且在抓取的过程中震动和噪音非常低。最后一句：先锋这款光驱是性价比之王！

发货很快，配送师傅态度很好，先打了电话，还专门送上楼了呢，和黑色的一起买的，感觉先锋的刻录机很好用

中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业

国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年，其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多

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读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上