综上所述,我国目前的国产光刻机整机交付的制造精度只有90纳米,对比高端光刻机还差得很远
不过,这已经达到了常用的光刻水平,对于一些低端芯片的生产已经够用了
中国能够整机交付的90纳米光刻机当然,困难只是一时的,我们会不断地努力下去,试图早早解决光刻机零部件难以自己生产的问题
那么,想尽早创造出更高端的光刻机,承包更多的高端零部件生产,中国应该怎么做呢?中国应该怎么做?首先就是加大科研力度,在一定基础上建立起联合攻关机制
所谓的联合攻关,就是将高端科研机构和知名高校、相关企业等联结在一起,让他们之间进行友好的交流与合作