也就是说,28 nm的光刻机是可以预期的,根据 ASML的发展历程来看,28 nm到10 nm的光刻机,最快也要5年,28 nm是光刻机的关键点,而28 nm是最重要的环节,也是最好的选择,也是最好的选择,只要能将28 nm以上的技术全部攻克,那么接下来的提升就简单多了
荷兰光刻机什么时候给中国
用起来方便,装好也完美,很契合原机。比较轻薄啊,很轻,读盘性能可以,等着试试刻录
我们认为,在今年的一季度,我们认为,这不仅仅是偶然,而是 ASML在技术层面上,在市场层面, ASML也感受到了巨大的压力