滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

值得一提的是，这已经是施赖纳马赫尔在一周内第二次就该问题，向外界明确表达荷兰政府的拒绝态度了

数日前，她在接受荷兰媒体采访时就强调，美方不应指望能在芯片问题上说服荷兰，荷兰会在与美国、日本等国磋商后，做出自己的评估，不会“完全照搬”美国对华颁布的芯片出口限制措施

还行，挺不错的，之前公司的让我弄坏了，自己买了一个赔给公司。测试了所有功能，一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快，态度也很好，好评！

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简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势

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以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

随着半导体下游需求出现下滑以及供应链问题，阿斯麦预计2022年三季度净销售额51亿欧元-54亿欧元，市场预期64亿欧元；该公司预计，2022年净销售额增长10%左右，较此前预期的增长20%大幅降低

由于成本上升，该公司还将今年的毛利率预期下调至49%-50%

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据媒体称，美国官员近阶段一直在向荷兰政府施压，要求其禁止向中国销售浸没式光刻机，这也是阿斯麦DUV光刻机中最先进的设备

包括商务部副部长Alan Estevez在内的美国高级官员代表团，将于本月前往荷兰讨论相关的出口管制问题，但据媒体预计本次会谈不会立刻达成协议

在与中国的贸易中，阿斯麦目前只供应了技术相对低一档次的DUV（深紫外线光刻机），该设备瞄准的是工艺技术在7纳米以上芯片的制造，覆盖了目前市场上大部分成熟制程的芯片，而中国也是阿斯麦DUV光刻机的最大客户之一

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正被台积电、佳能等下注

读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。

尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情

而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机，这里面既有欧美的阻挠，估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机，毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后，这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战

读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实

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刻录机现在很少用到了。价格也是超便宜。买一个来读一些以前的碟。小孩的巧虎也能播一下。还没试用，应该都没啥问题的了。先锋的刻录机以前一直用。没想到现在还在卖，和索尼两分天下。图它比索尼便宜20块，选了先锋。送了一条sata数据线，挺好的。

另一个DUV光刻机，可以制造7nm以上的芯片，其中的DUV是深紫外光的意思，使用193nm波长的光源

所以很明显，我们的超分辨率光刻机的光源波长，要比他们大很多，这是因为技术原理上的差异导致的

超分辨率光刻机的工作原理是这样的，它采用表面等离子体超分辨光刻（surface plasma），也叫表面等离子超衍射光刻，是最近十几年兴起的一种新技术

美国要求欧洲企业不对中国出售先进科技，也要求美国企业不能对中国出售先进科技，但是美国却悄悄给自己的芯片企业开后门，高通获得了许可对中国某科技企业出售定制化的4G芯片，NVIDIA申请将高端芯片的最后供货期限延迟半年，近期美国芯片行业的NVIDIA、新思科技等为了从中国市场获得收入都开发了针对中国市场的定制化产品

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

中国买不到好的光刻机

不过据美媒消息，目前荷兰政府尚未答应美国政府的要求，原因是此举可能会影响中国和荷兰两国的经贸往来

数据显示，2021年中荷两国的贸易额达到了1164亿美元，中国是荷兰的第三大贸易伙伴，其中以光刻机为代表的半导体生产设备，是荷兰对华出口的重要商品之一

外媒分析，经过四年的发展，中国大陆目前的国产光刻机水平极有可能来到了28纳米水平

美国政府担忧，随着中国国产光刻机水平越来越高，迟早有一天将会摆脱对西方的依赖

所以美国政府提前出招，想用一切办法，限制中国国产光刻机的发展，进而阻止中国半导体产业以及中国高科技企业的进步