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NSR-S635E光刻机 / 尼康虽然这样的机器在分辨率上与ASML的EUV光刻机还存在着不小的差距，但已经足以覆盖不少成熟工艺的晶圆制造，以及部分次先进节点的辅助制造了

而在去年的SPIE先进光刻机技术会议上，尼康展示了名为双光束EUV光刻技术

FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样，同样拥有影像和光刻机两大业务，但在光刻机上，佳能的主要产品是i线和KrF光刻机，其中主打高分辨率高产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率

德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学

所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态

而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的

在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html

5、物流超级给力很快就收到货啦，卖家老板特别好建议的尺码非常合适，衣服做工精可料质地厚实，颜色好看，质量真的非常好!版型设计非常好看 ，穿上显气质!超级满意！

目前，我国是芯片需求量最大的国家，直接拉动了全球1/3的芯片市场需求

但是这么大的数字90%都需要从国外引进，这也导致我们非常容易被国外“卡脖子”，这不，前几年的华为风波就是美国试图牵制中国的发展，而闹出来的一地鸡毛

实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。

第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。

一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题

ASML：不放弃中国市场！众所周知，芯片制造离不开光刻机

尽管最近一段时间ASML成为了美国施压的对象，但其实ASML一直都在提升对国内市场的出货能力

但让人没有料到的是，似乎在出货光刻机上迎来了变数

就在近日，国内的光刻机市场透露出了一个新的消息，那就是近期我们所进口的光刻机设备的价格高于市场价的3倍

虽然没有明确说明是ASML，可我们国内进口的光刻设备大多是来自于ASML

现在这年代还在用光驱的不多了吧，连机箱也没几个说特意有留位置的，要么就是复古机箱，非常难看……至于光驱还是信赖老牌子，用先锋我是很放心的！

读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

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光刻机机械制造工艺研究所

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢

综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少

换句话说，我们还没有说服任何人

历史表明，我们的盟友通常对美国的境外（限制）措施反应不佳”

中国怎么解决“卡脖子”在设计、制造、封装、测试的半导体制造四大环节中，制造依然是中国产业界的短板，包括光刻机等一些关键设备依然存在“卡脖子”问题

《日本经济新闻》29日报道称，最新公布的财报显示，英特尔等多个芯片行业巨头三季度利润骤降

27日，英特尔的财报显示，净利润同比下降85%

报道称，过去几年半导体行业的繁荣似乎正在走向破灭，美国对中国芯片出口的新限制可能会加剧这种痛苦