滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

ASML主要处于中游，就是将上游的这些核心厂商、核心元件聚拢，然后自己再组装成一台光刻机

而下游则是台积电、三星、英特尔这三家，这三家为了支持ASML，曾入股ASML，成为ASML的股东，形成了利益共同利

光刻机交货了吗

中国科学院微电子研究所的陈宝钦在文章《光刻技术六十年》中表示，“从1968年半导体IC 由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约 1/10000

快递超级给力，次日达。本次活动也可以呀。先锋的刻录机，多年的老牌子了，DVD刻录机还用着这个的。目前支持4K的光驱极其稀少了

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

ASML的哀伤

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

这两款芯片都是台积电代工生产的，并且采用的是FinFET架构

台积电5nm虽然已经量产，但产能还是很有限，还在持续提升中

这也算是为两家企业2-3nm制程的市场之战吹响了号角

为了抢在台积电之前完成3nm的研发，三星的芯片制造工艺由5nm直接上升到3nm，4nm则直接跳过

美国强迫无用!佳能为了中国扩产光刻机、欧洲顶级芯企也不愿离华光刻机机械制造工艺研究所

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

其中美国在光刻机领域的发展一路顺风顺水，可以说在上个世纪最早期的时候，美国光刻机发展能够达到世界最顶尖行业水平

在这时候荷兰的光刻机还不太显眼，在1984年的时候，荷兰的光刻机才算是正式成立

最开始注资的时候，还是飞利浦和一家小公司各自出资50%形成的合资公司，而荷兰光刻机公司最开始成立时只有短短的31个人

此前中国芯片制造企业中芯国际向阿斯麦公司订购了一台EUV极紫光刻机，金额高达一亿多美元，不过就在即将交付的节骨眼上，美国倒插一脚，导致中芯国际到现在也没有收到货

半导体产业是一国工业支柱性产业，不能因为光刻机供应受限，就放弃半导体产业的发展

先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上

南大光刻机进场

近日，光刻机巨头阿斯麦公司在2021年财报中宣称，中国企业东方晶源在中国内地销售的产品，涉嫌侵犯阿斯麦公司的知识产权

据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程

项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品

小型光刻机企业

很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。

光刻机要一直被“卡脖子”?华为:我偏不...

读盘速度：很快很强 读盘声音：比较轻 稳定性能：性能稳定可靠，容错能力强 外形外观：很好看 轻薄程度：适中 产品包装：精致

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。

仅达到90nm

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

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　　其次，就算拥有了精密的零件制造业基础，在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题，因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出

　　虽然中国随着近代发展，新兴产业在大量扩展，但是基层技术知识与创新理念却并未进行细耕，也就导致中国的光刻机技术出现一定的差距，这也就成为了目前中国光刻机技术想要进一步突破的关键