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坚决不照搬美国对华政策:把光刻机给美国会更糟糕

阿斯麦的标志日本和韩国就是先例，日本有技术，韩国也有技术，日本在半导体领域曾经甚至领先美国，占据了全球半导体领域的半壁江山

但是现在，日本在高端半导体领域的水平并不突出，核心技术都到了美国手里

韩国的情况也一样，出了一个三星，结果大股东都是美国资本，已经沦为了一家真正意义上的美国公司

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

老牌子，收到货后就装机了，和主机很匹配，办公用方便，主要用于看资料和刻资料盘。 然后试用了一下，运行速度快，安静。 先锋刻录机真的很不错，价格也实惠。 产品包装的很好，比较满意，有需要的值得购买！尤其办公使用，很好。

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0

国产光刻机 厂商

众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节

而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机

EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

中国古语有云~~~杀鸡取卵，饮鸩止渴，就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造，为芯片造假翻案，并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

这些“弯道超车”党的鼓吹、糊弄舆论，有可能导致我们国家大批投资化为泡影

目前的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展，获得了大量的利润，进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发，从而形成一个良性的循环

先锋大品牌老品牌值得信赖，买来用于替换原来的普通DVD光驱，复盘速度很灵敏，刻录一张8GB的光盘最多八分钟，而且读写声音很小很稳定，非常满意.

买回来第二天就用上了。刻录稳定且DVD读取速度也无碍。非常适合我。一直都是用先锋的光驱，厦量还可以。试了一下读碟正常。刻录方面没试，平时很少用。

其实日本的光刻机企业也有深厚的技术积累，在2005年之前，日本的佳能、尼康占有光刻机市场八成的市场份额，不过当时它们力推的是干式光刻机技术，干式光刻机技术逐渐达到瓶颈，台积电恰在那时候研发出了浸润式光刻机技术，而日本企业不愿失去已有的利益，将机会让给了ASML

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

继续对华出售商品

除此之外，中国2021年在半导体行业的支出为296.2亿美元，已经连续两年成为世界半导体设备的最大买家

同时，因为半导体产业是全球共同协作的，中国企业对光刻设备的需求又逐渐扩大，ASML自然无法忽视中国市场的重要性，与中国企业进行大量合作

作者：战忽速递为了遏制中国在高科技领域的崛起，美国可谓是费尽心思，此前，美国多次施压日韩两国不要给中国出售半导体和芯片，随后，美国又施压荷兰，不允许荷兰企业向中国出售光刻机

其目的不言而喻，那就是遏制中国企业在高科技领域的进步，确保美国的优势

荷兰身为欧盟成员国，当然看到了美国的霸权本质，如果跟随美国胡来，荷兰只能沦为美国的棋子，绝不会得到好处

对荷兰来说，与其助纣为虐不如合作共赢

在世界经济一体化的背景下，中国与荷兰等多国的合作是正当合理的，美国试图通过霸权打压来破坏世界发展，是行不通的

第二次购买了，这次选择黑色区分一下，刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短，占用空间少，不错！非常喜欢

之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。

”特邀文章《光刻技术六十年》不过，随着世界局势的变化，中国和美国的贸易摩擦升级

在这种情况下，我国在传感器、芯片、高端设备方面受到了一定的限制

比如咱们在上文中提到的，美国呼吁荷兰不要向我们出口高端光刻机

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖的方法，目前已经取得了不错的成绩，即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片，本质上是同质同构，也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术，就是采用不同的芯片架构，在芯片制造的后端环节，利用先进封装，再将不同架构的芯片集成到一起，形成一颗“大芯片”，所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题，但是很快，新的问题也暴露了出来，那就是成本，先进工艺无论是从芯片的设计还是制造，成本都成倍的提升，这种提升的幅度，即便是全球顶尖的芯片巨头，也都难以承受，例如苹果

这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案

目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）

前道光刻机相图片

东西今天收到了,很满意!!卖家服务态度很好，卖家解答疑问不厌其烦,细致认真，关键是东西好，也朋友推荐购买的，朋友用了很长时间了，而且货物发得超快包装仔细,值得信赖!

众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节