ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进
目前,ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机,并正在大批量生产中
对于 0.33 NA 系统,ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量
荷兰精密光刻机
三星方面,据韩媒 Business Korea 报道,李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时,拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管,广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应,并取得“额外”的 EUV 光刻机设备