滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：非常好 产品包装：简单便捷 外形外观：大气耐看 读盘声音：还可以 稳定性能：新的

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！

光刻机板块净利润光刻机板块平均净利润来源：点掌财经从平均净利润上看，光刻机板块自2019年以来净利润情况是逐年上升的，同时2022年第二季度板块平均净利润为1.19亿元，较去年第二季度的1.00亿同比上升了19.15%；光刻机板块是处于增收又增利的高景气度高成长的发展周期之内

所以目前台湾省内很多媒体，对台积电也不太满，觉得岛内对台积电扶植过度了，毕竟台湾省幅员狭小、能源有限，而台积电高耗电、高耗水量，对居民用电、电水造成了紧张

同时目前台湾省本身资源紧张，电力供应紧张，新增的电量，很多往台积电倾斜了，还未必能够满足台积电未来产能扩张的需求，让大家对未来担忧

非常好用，安静，可以读取和刻录dvd-ram碟片，但我发现这款和华硕那款同价位的造型都一样，功能也一样，怀疑是同一间厂生产。

为此，台积电也在努力想办法，比如自己去买电厂，解决供电问题，还直接与一些电站签订采购合同，确保电力供应，甚至还不得不将产能转移至美国等地，缓解供电危机，但一年190多亿度电，需要100多亿元的电费，让台积电也是很头痛

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

读盘速度：满意 轻薄程度：满意 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻哦 稳定性能：优异 产品包装：简约不失大气

至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

很不错，做工精细。没配SATA线，附件电脑店买一条，装上，电脑认不出。进BIOS设置，解决。读盘速度：非常好读盘声音：非常好稳定性能：非常好轻薄程度：非常好外形外观：非常好

芯片研制有光刻机还不行

ASML急了:扩大产能

好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??

像intel、台积电、三星等巨头，则是三大光刻技术，都在押注，以免万一某一种技术突然崛起，把自己搞得措手不及

这让ASML压力山大，那么怎么办呢？当然是想办法讨好客户，让客户的需求得到满足，这要客户就不会跑掉了

于是近日ASML公布了自己的一个计划，那就是推动产能增长，多产生光刻机出来，让客户都能买到，这样就不会想着其它技术了

　　在半导体中，光刻机属于核心设备，它不仅是耗时最多、成本最高的一步，同时还拿捏着芯片制造工艺水平的命脉，目前最先进的 7nm、5nm及接下来的3nm、2nm都需要EUV光刻机，即使一台售价高达10亿人民币，依然是供不应求

试图遏制中国芯片产业发展

做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。

　　美方不断对他国搞“技术封锁”、“技术脱钩”，不过是提醒了别国“一味依靠美国是不行的”，需要更快实现科技自主、自立自强

大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”

但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题

发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）

那么，除了ASML这个大公司，我们还有其他的选择吗？其实，最近我们就有了新的选择

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小

这个价格什么概念，资料显示重型航母（排水量60000吨以上）航母造价是35亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价（1.5-2.5亿美元）

尽管如此昂贵，但Intel此前表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了

这种通过技术解禁的方式来压制我们的产品发展，不但非常有效，而且对国内半导体行业的冲击可以说是致命的

因为这个手段是可以从精神层面来打压我们的，国家给了补助资金，研发团队殚精竭虑地研发了数年，到头来西方企业的一句话或者一个政策，就决定了这个产品的市场走向，换成谁，谁心里面都接受不了

如今asml却供应给大陆一台光刻机，我个人认为这是跟前段时间上海企业宣布在14nm芯片上面取得技术突破有很大关系

西方国家准备再一次通过技术解禁的手段，来打压我们的技术发展

第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右