滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

先锋的刻录机确实很稳定，效果也很好，已经用了好几个了，又买了一个感觉，确实不错。小巧玲珑，播放翻录效果都好，很安静，刻录还没用暂不需要，是一款超赞的小光驱！拍照为证。

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

如上图所示，这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分，分国上、中、下游三个部分

京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐

如上图所示，去年全球一共售出478台前道光刻机，其中ASML拿下309台，占比为65%，日本厂商拿下169台，占比为35%

而中国厂商的份额为0

再看看5种分类，可以看到EUV光刻机是ASML独占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML说了算，占比分别96%、88%

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收

读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。

ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭

第一次自己组装电脑，选择这个骇客神条真的是百分百满意，快递包装很好，防震到位，显卡沉甸甸分量很足，做工很精良，装好一次点亮，logo.灯简约大方，体质非常不错

近日，位于上海临港新片区的鼎泰匠芯传来好消息，洁净室正式交付，还搬入了首台ASML光刻机

这再次证明了ASML的态度，不会听从美限制，将继续出货DUV

其实，ASML早就下定了决心

面对大陆这个全球最大的半导体市场和全球最大的半导体设备市场，ASML当然不想错过，一直在默默地加大大陆的布局力度和重视程度

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

再有就是美国要求诸多盟国不要将先进芯片设备卖给中国的时候，美国芯片却由于面临业绩下滑而自去年以来申请许可给中国企业供货，高通为中国科技企业定制4G芯片，近期NVIDIA紧急为中国开发定制版GPU芯片A800，新思科技等也为中国企业开发定制版的EDA软件，显示出美国正试图独占中国市场

大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。

买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?

可以的，声音小振动也小，支持的格式全面，试刻了一张CD很满意；还专门试了下DVD -RAM格式，也是支持读写的；颜值手感都很在线！就看寿命了，暂时是推荐购买的?

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

紫外线超分辨光刻机

事实上，如今的ASML虽然是全球最大的光刻机企业，但是日本光刻机仍然占有近四成的市场份额，随着日本光刻机企业从中国市场斩获大笔订单，ASML担忧2005年之前日本光刻机占有全球光刻机市场八成份额的现象重演

中科院超分辨率光刻机

物美价廉，性价比高，下次还买了，读盘速度：非常块读盘声音：非常小稳定性能：稳定性能：非常 稳定

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案

先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上

2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的