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结果光这台激光器，通快公司就用了十年才生产出来

这台激光器自己就有457,329个零部件

用激光器打锡球成功了，你还得把产生的极紫外光收集起来，为此你需要镜子

可是极紫外光的波长太短，打在一般东西上都被吸收了，并不会被反射！研究人员一算发现这个镜子必须是分层的：一层金属钼一层硅交替排列，每层的厚度只有几纳米，而且要做一百层

如今在全球市场上，能生产出先进EUV光刻机的只有ASML公司一家；凭借着垄断的优势，也让ASML公司在光刻机领域赚的是盆满钵满；而ASML公司也曾公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来！这也说明光刻机是非常难造的；据悉一台EUV光刻机拥有超10万个零部件，这些零部件精选全球超5000家供应商；而我们想要凭借一己之力去造EUV光刻机也显然是不太现实的！值得一提的是，不管怎么说EUV光刻机是人造的，而不是神造的，只要我们肯加大自主研发的力度，那么就没有什么是不可能的；为了解决卡脖子的难题，华为等众多的国产科技企业都选择了埋头苦干，在国内科技企业的不不断努力下爱，现在国产光刻机已经实现14nm技术的突破，未来也是十分可期的

一直想弄个刻录机，在华硕和先锋两个品牌面前打转，不知道选哪个，以前用的CD和DVD都是先锋的，有点点情节，先锋的质量非常好，希望现在的也一直保持着当年的光彩，这款支持4K，功能全面，果断下手，要弄就弄个好点的，未来说不定需求都要，做工非常了得啊！质感很好！支持先锋！

步进扫描光刻机的优点

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

2018年11月29日，中科院光电所宣布，由我国科研人员自主研制的首台利用紫外光源实现22nm分辨率的光刻机成功现世

这个消息意味着我国在微电子技术领域迈出了坚实的一步，进一步缩小与西方企业的技术差距

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工

产品收到，销售人员服务非常OK，有耐心，咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

之所以说ASML公司不会放弃中国市场，明显地，中国市场是DUV光刻机的采购大户

在美对中国市场断供后，成熟工艺芯片市场则成为中国半导体产业的重心，因此DUV光刻机的需求量也暴涨

根据数据来看，2022年Q1季度，ASML公司就已经向中企供应了23台光刻机，足以证明，中国市场对ASML公司很重要

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势

所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手

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尼康光刻机镜头作用

ASML即将推出新一代光刻机

面对这种现实，我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线，不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中

读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方

外观好看，经济实用 品质优良， 结实耐用，价格实惠，使用满意，特别好用，非常棒，名牌，质量很好，拷贝静音，值得推荐。

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

也就是说，美国政府不但不想让中国在高端芯片领域取得重大突破，同时还想限制中国中低端芯片的产能

二是防止中国的光刻机技术取得突破，众所周知，一般一项技术的发展，遵循循序渐进的原则，也就是从落后到先进，光刻机的发展也是如此，阿斯麦公司现在最先进的EUV光刻机也是一代一代升级而来的

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞

华虹计通股票有光刻机

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

这样的技术不仅可以用于DUV光刻机，还可以用于EUV光刻机

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先锋刻录机的质量非常好，2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱，现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱，我再次选择了先锋。这款光驱性能很好，刻录时噪音很小，运行平稳，我非常满意！

近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上