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ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里，通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构，从而制造更先进的工艺，然而这种方式随着向更先进的工艺推进，这种方式导致光刻机日益笨重，光刻机自身的成本也因此激增，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元

1.2亿美金一台!EUV光刻机到底难在哪里?

那么阿斯麦的光刻机，凭什么能卖那么贵？光刻机制造难点熟悉《星球大战》的朋友都知道光剑吧，在那个主题设定里，光剑可是一种高科技武器

同样，在光刻机里，也有一把“光剑”，它能在晶圆上刻画芯片电路，这是芯片生产最基础也最关键的一环

Pioneer 外置光驱很好使用，兼容macOS系统，读碟声音很小。很好的一款光驱，先锋品牌质量不错，虽没有用同样给予好评！

噪音不大，刻录速度也很快，做工很精细，非常好，买一个放在手边刻盘很方便，美中不足没有赠送保护包，携带有些不方便。

两年后，美国德州仪器的基尔比、仙童半导体的诺伊斯，才几乎同时做出人类史上的第一块集成电路，打开了潘多拉魔盒

　　作为集成电路（芯片）制造的必备设备，光刻机从此走上历史舞台，走进发展快车道

中国光刻机的发展，也从此时开始

　　2021年2月，全国集成电路标准化技术委员会成立，包括华为、小米、中芯国际、上海微电子、北大、清华等90家单位，基本涵盖了我国集成电路产业链主要的企业、科研院所、高校

大家抱团取暖，进一步促进产业上下游对接

　　国产光刻机产业也迎来突破

读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

目前全球能够制造光刻机的厂商，真不多，可能也就4家，分别是ASML、日本佳能、日本尼康，还有上海微电子

那么这4家各自在市场表现如何？近日，有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况，一共是478台（注：数据真假未知，但以机构的知名数，估计不会有假）

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

因此众多国内芯片厂商也纷纷选择ASML提供的光刻机，这也使得ASML在仅仅4个月内就售出了23台光刻机，也让大陆市场一跃成为ASML目前的第一大市场

ASML光刻机但是从另一方面来说，目前ASML出售的全部都是低端光刻机，而高端的EUV光刻机目前为止一台都没有出售给我们

先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

2018 年开始，ASML 被美国施压，禁止向中国出口最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）

到了今年，美国变本加厉，要求连 DUV 也要禁售，这下 AMSL 不干了

11 月 25 日，荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判

显而易见，中国是他们“不想离开”的市场

今年年初关闭了在珠海运营32年的工厂之后，佳能却表示要投入500亿日元（约合25亿元人民币）新建半导体设备工厂，主要增产光刻设备，而建成后预计产能将提高2倍

在2021年缺芯潮中，哪怕是佳能一台三十年前的二手光刻机，身价也可以足足涨了17倍，被炒到170万美元的高价

2007年的时候，意法半导体在中国通用MCU中占有的比率仅为2%左右，截至2021年，在中国MCU市场份额达21%，排名第一

在恩智浦看来，中国市场对其的贡献也占据着举足轻重的地位

曾有美国教授指出，如果建造原子弹难度是1，那么中国造光刻机的难度是10，因此有不少人发出疑问，原子弹和光刻机到底哪个更难造？甚至有人说，为什么我们把原子弹都造出来了，为何还造不出光刻机呢？这要说，这两者根本不具备可比性，以目前的技术来说，我们建造原子弹，自然已经不具备难度了，可是能否认原子弹是尖端技术吗？就在几十年前，更是世界最尖端技术的存在，我们建造出第一枚原子弹不难吗？科学家们，用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹，能不难吗？难，只是以目前的技术来说，再看过去，难度好似降低了

除了这些以外，还有光刻机的机房环境也至关重要，由于灰尘颗粒会吸收光，首先机房必须是无尘，工作时必须穿无尘服，第二机房的光照环境是暖光灯减少对极紫外光的刺激，第三光刻机属于精密型仪器，不能受到外界干扰，所以机房下方必须架空以减少振动对设备产生的损坏

激光和光刻机

众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货