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正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机

就像原子弹爆炸的原理，早就不是什么国家机密，但真正制造出一枚核弹，却不是那么容易的事情

制造光刻机有哪些困难？首先是光源问题

光刻机是用紫外光刻画在晶圆上，这就对光源有了极高的要求

目前，世界上最先进的光刻机已经做到3纳米

这比挖比特币还要费电！我们自己的光刻机做到了什么水平呢？ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片

“中国不太可能独立复制出顶尖的光刻技术

”不过这样说完之后，他还是做了补充：“这也并不是绝对不可能，因为中国的物理定律和我们这里是一样的”

对此王传福更是直接回怼，光刻机是人造的，不是神造的

Peter Wennink ASML CEO这里阿斯麦老板提到的是顶尖的光刻技术，就是EUV

我们可以发现这就是一个美国公司小团体，美国的半导体大厂也只能抱团来对极紫外光刻机的研究和商业化进行投资来分担风险和集中研发能力

当时虽然英特尔看中尼康的技术能力想拉其一起加入这个联盟，但美国担心这个核心技术被国外掌握，所以即使是美国忠实小弟日本的企业，也最后被排除在这个技术核心圈之外

读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。

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光刻机原料

随着全球芯片市场出现短缺以后，国产芯片产业链就迎来了大爆发，而我国作为全球第一大的芯片消费市场，每年都要从国外进口超万亿规模的芯片，只要有国内市场加快发展，并努力实现自给自足，那么有这万亿级大市场的支持，我们何愁中国半导体发展不起来呢？不知道对此你是怎么看的呢？

一台EUV光刻机

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

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图为芯片晶圆加工在现代芯片制造中，光刻机可谓是一项必需的设备，在晶圆加工成芯片的过程中，包括光刻气体，光刻胶以及光罩在内的一系列光刻工艺步骤，都需要光刻机来完成，而这些步骤占据了晶圆加工流程的30%，可以说，一个国家如果没有光刻机，在制造芯片时几乎就是无从下手，但目前世界光刻机市场的话语权，均被牢牢掌握在西方手里，荷兰的AMSL更是垄断了10纳米工艺以下的光刻机市场

光刻机到底能用来干啥?制造难度究竟多大

图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化

2，除了类似的综述论文所需资料外，会包含研究人员和研究团队的分析，研究人员的背景、研究团队的组成、稳定性，以及他们的技术能力，是分析、预测项目推进的重要组成信息；介绍俄罗斯的LPP EUV光源研究员康斯坦丁·N·科舍列夫3，在研究人的因素之上，进行详细的工业基础、技术背景调查，以此了解每一项组件所依赖的外部条件，如软硬件、材料、资源、资金等，以此判断实现每一个环节大概所需要的时间，并整体综合判断项目进度

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而阿斯麦方面也预计柏林火灾不会对其2022年的系统出货产生重大影响

从2018年开始，阿斯麦就试图向中国大陆销售EUV光刻机，希望进一步进入中国大陆市场，但荷兰政府一直未批准其出口许可申请

在美国的持续施压之下，这一请求已被荷兰官员搁置

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阿斯麦2021年四季度财报截图 从出货地来看，中国台湾依然是阿斯麦的最大市场，四季度有51%的光刻系统发往当地，占比环比提升5个百分点；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，占比环比下降6个百分点；中国大陆是阿斯麦第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12个百分点

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多家西方媒体报道称，美国也在鼓动和拉拢盟友加入打压中国半导体的阵营

彭博社提到，美国负责工业和安全的商务部副部长艾伦·埃斯特维兹本月将前往荷兰讨论出口管制问题

美方不仅施压荷兰政府拒绝批准阿斯麦公司向中国出售最先进的光刻机，还一直试图要求禁止该公司对华销售部分旧款光刻机

荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔 资料图 图源：彭博社这并非施赖纳马赫尔首次就芯片制造设备对华出口问题发声，18日接受新鹿特丹商报（NRC）采访时，她表示美国不应指望荷兰毫无异议地采纳其对华出口限制措施，“荷兰不会一比一照搬美国（对华出口）的措施”