滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

日前媒体报道指国产先进光刻机的产业链正逐渐完善，纯国产光刻机即将出现，难怪ASML之前加紧向中国出售光刻机了，它非常担忧中国光刻机将成为它的强劲对手

正是由于国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势

先锋刻录机的质量非常好，2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱，现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱，我再次选择了先锋。这款光驱性能很好，刻录时噪音很小，运行平稳，我非常满意！

而面对美拉拢的时候，日半导体可谓是表态很迅速，直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了

显然，那个时候日半导体是给老美释放了一个不错的信号

只是在这番表态之后，日半导体久久没有实际上的行动，不仅如此在中途还内部联合了多家企业组建了欲攻破2nm等尖端技术的联盟

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。

比如，7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中：1，干式DUV光刻机的投资比例是10%,；2，浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,；3，数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

不过资本追逐的永远都是利益，曾经无情吐槽中企“给你们全套图纸都造不出光刻机”的ASML，这两年对我国半导体市场频献殷勤，不仅在国内设立了3个开发中心、15个办事处、11个仓储物流中心等，同时还为中国员工设立了“ASML中国日”，还决定继续扩大中国团队

非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。

正是有了强将的加盟，镁光带来了自主研发的1β工艺，Zyvex Labs公司通过电子束光刻技术带来了号称“全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统” ZyvexLitho1，成功绕开了ASML的光刻机

一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！

实际上，荷兰已经够给拜登面子了，至少他们已经明确表示了，最先进的光刻机是不会销往中国的

可要知道的是，中国在中低端的光刻机上，已经取得了突破，如果荷兰不趁着这个机会，尽快将产品销往中国的话，那时间再长一点，中国也未必会买了

其间，唐·格雷夫斯还到访了ASML位于荷兰总部并会见了公司CEO彼得·温宁克

不过，此前温宁克曾表明过态度：反对禁止向中国出口DUV光刻机

报道还称，美国也在努力向日本施压，要求ASML对手——日本尼康等企业停止向中国芯片制造企业交付光刻技术

蒸镀机和光刻机

2、美国通过ASML的上市公司身份入股

随着其在DUV时代取得成功，英特尔入股ASML叠加并购加速，2012年，英特尔、三星、台积电共同买入ASML 23%的股权，获得了ASML EUV光刻机的优先供货权，成为了利益共同体

外媒此前报道称，受美国对华出口禁令影响，阿斯麦第三季度订单有所减少

对于拜登准备向日本荷兰施压阻止芯片技术流向中国一事，中国外交部发言人赵立坚11月7日表示，美方此举不是堂堂正正的大国所为

当然，美方滥用国家力量，倚仗技术优势，对盟国经济胁迫，以维持自身霸权私利，早已不是什么新鲜事

据报道，施赖纳马赫尔22日对议员表示，在美国与其他盟友进行贸易规则谈判的过程中，荷兰将在阿斯麦向中国出售芯片设备的问题上作出自己的决定

“重要的是我们要捍卫自己的利益——我们的国家安全，以及我们的经济利益

先锋的产品，质量很稳定，老的用了很多年光头已经不行了，换个新的继续用。多快好省信赖京东，先锋的刻录机质量杠杠的，好评

上海做光刻机公司有哪些

先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合

画出芯片设计图，本质上是把芯片上的电路安排得明明白白的，谁也别影响谁

这是高级工程师早已经做好的

第二步，就用上光刻机了

芯片就是图中这个绿色的板板，上边焊着一些点点

这个板板本质上其实是普通的沙子，也就是二氧化硅

读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦

手机里装7纳米的芯片和14纳米的芯片，本质上并没有什么区别，抢红包也不见得能多抢到一毛钱

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点