滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

再加上，中芯国际不断兴建新的晶圆代工厂

也正是因为如此，包括ASML、台积电等在内的芯片供应商都希望与中企合作，从而获得更多的利益

为了遏制华为等中企的发展，老美擅自修改了芯片规则，禁止所有使用了美技术和设备的企业向中国市场出货，ASML生产的EUV光机也被包含在内

刚收到了就使用，非常好用，接上就能用，方便好用，质量保证。物流给力。宝贝性价比很高，质量做工很好，安装简单方便，接口兼容性比较好，推荐购买!

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

照例给予好评！给自己给朋友同事亲戚装机多台，常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱（刻录机）充满信赖。现在光驱（刻录机）使用频率越来越低，装机后安装原版随机驱动还是光驱（刻录机）比较方便。现在向法院提交视频、图片，也需要刻制光盘，还的满足职业需求。现在的价格常搞活动，也很便宜。

先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

2018年11月29日，中科院光电所宣布，由我国科研人员自主研制的首台利用紫外光源实现22nm分辨率的光刻机成功现世

这个消息意味着我国在微电子技术领域迈出了坚实的一步，进一步缩小与西方企业的技术差距

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。

这个先锋的刻录光驱一直在用，质量很不错哦，而且京东上购买质量比较放心，价格也比较实惠，京东的发货速度和送货速度都很快哦，服务好超级棒。

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于是，下饺子一样的晶圆厂扩产浪潮之中，一台2014年售价不到10万美元一台的佳能FPA3000i4光刻机（几乎三十年前的型号，分辨率仅有350nm），被炒到了170万美元，一机难求

占据了全球绝大多数先进产能的阿斯麦更是炙手可热

台积电认为这是在「后段布线制程工序」(BEOL) 中克服电阻的最佳解决方案的一种

工序上做出如此改进后，在同等能耗和复杂度下，N2的性能比N3高10%-15%

在相同速度和单位面积晶体管平均数目下，N2的能耗比N3低25%-30%

款式很时尚，刻录速度非常快，效果很好，以后还会再来购买。宝贝与描述基本一致，发货很快，值得一买 刻录速度效果相当的好

2025年量产

台积电杀手锏来了：2nm先进制程首亮相

6月16日，台积电在2022年度北美技术论坛上，官宣将推出下一代先进制程N2，也就是2nm制程

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实

现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机

到货后马上拆机更换，读取速度也很快，刻录效果以后再试，一直用这个牌子，效果不错，东西还是不错，好用，就是包装盒是脏的，不舒服

胜利精密华为光刻机

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台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持

光刻机的核心组件

读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好

投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机，就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动，将芯片的“最小工艺”节点再次拔高

第五代EUV光刻机，就是现在各国追求的尖端光刻机

因为这个光刻机，已经将最小工艺节点推向了一个“极限”

回来就试了一下，挺好，声音超级小，耳朵贴上去才能听到声音，好评！东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构