滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

值得大家注意的是，目前NIL技术，基本上都是日系厂商掌握，并不需要依赖美国、欧洲等的产业链，也就是说NIL光刻机，日本一旦生产出来，可以不听美国的，不受美国的长臂管辖，也意味着佳能一定生产出来，是可以卖给中国的

所谓NIL技术，是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上，同时照射光线完成一次性转印，被称为是最有前景的光刻技术之一

目前在NIL的专利上，佳能一支独秀，远超其它任何厂商，并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上，而是已经有有生产出来了，在2021年就有了成品，并且被铠侠应用于NAND闪存的生产

ASML首席执行官温彼得为何ASML首席执行官会做出这个发言？一方面他确实是从全球芯片产业链的角度在考虑问题

要知道芯片生产涉及到测试、制造、封装等多个环节，同时对于水、电资源也有需求，同时还需要相当数量的芯片从业人员

ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链光刻机有没有替代技术

IBM生产量子芯片时，使用的也是类似的“无损探针台”，这次我们也研发出来了，也就意味着在量子芯片上，被光刻机卡脖子的历史，再也不会出现了

按照中国科学院院士潘建伟的说法，未来几年，我们能够实现数百个乃至数千个量子比特的相干操纵，进而实现通用量子计算机

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到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的

今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要

公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。

比如清华大学的徐端颐团队，成立之初多达数百人，有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅，还有搞计算机控制的技术工人，但是没有一个人懂光刻机，徐端颐团队研制新设备，全部图纸都要自己设计，全部零部件都是自己加工制造，一切从零开始，边干边学

刻录机包装完好无损，外观设计漂亮，性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥！包装很完整，做工也不错，入手很轻，读盘顺畅，还没试着刻盘

读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

注：图片来自仪器信息网　　然而自主研发光刻机并非想象中那么简单

据数据显示，制造一台光刻机的精密零件需求为数万颗，而世界目前最先进的极紫外EVU光刻机则需要零件多达十多万

　　如此多的数目以及极其精密的数据要求，就成为了光刻机最根本的需求基础，因此传统的制造基础便成为了光刻机技术突破的基础产业要求之一

　　其次，就算拥有了精密的零件制造业基础，在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题，因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出

原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。

?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

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在今年的三季报会议上，ASML还宣布，其第三季度的预订量达到创纪录的约 89亿欧元，其中38亿欧元是EUV系统，包括了High NA EUV系统

对于High-NA EUV光刻系统的价格，温宁克也首次正面回应称，每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间

持续扩大在韩国投资去年11月，ASML与韩国华城市签署了一份备忘录，宣布投资2400亿韩元（2.12亿美元），于2024年前在当地打造一座16,000平方公尺的维修中心和工程师培训中心，可容纳多达1500名员工

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究

2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

目前全球能够制造光刻机的厂商，真不多，可能也就4家，分别是ASML、日本佳能、日本尼康，还有上海微电子

那么这4家各自在市场表现如何？近日，有机构统计了2021年全球前道光刻机的销售情况，一共是478台（注：数据真假未知，但以机构的知名数，估计不会有假）