很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试
刻碟速度很快，CD碟5分钟内刻完，大品牌，质量有保障，物美价廉，值得信赖。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 长期使用中 值得信赖 好评五星
送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋
读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
很好用，读碟效果很好，以前的老光驱有的不能读的碟这个基本都能读出来，满意。买了几次，现在的刻录机价格便宜，质量不错，刻盘坏的很少，值得购买。
流畅速度快，全新，非常实用，京东物流就是快 先锋刻录光驱多次买了 好用 性价比超高 good
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
提供光刻机所需材料企业
不错，很好，喜欢?，给力?，哈哈?果然是大牌子，质量很好，声音安静，读取刻录都很顺畅
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉