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其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限，如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机
安装之后下了播放器，使用起来非常顺畅，读取蓝光碟迅速，很棒，先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评
面对中国台湾、美国和日本的芯片企业做出的选择，ASML似乎还颇为硬气，近期宣布将在未来两年大举扩张EUV光刻机和DUV光刻机的产能，业界人士认为ASML此举可能是计划在未来对中国出售光刻机
然而由于ASML迟迟没有做出对中国销售光刻机的决定，中国已失去耐心
中国光刻机被卡脖子
日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草
ASML的哀伤
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再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本
ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭
首先是ASML跪舔的美国抛弃了它
美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍
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