曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍
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读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。
光驱很好，声音不大，读盘速度快，现在用的不多了，买个备用，加上转接线，方便快捷，好用，好用，有需要再来买！牌子大，质量稳定，估计用很多年没问题！
非常好用，安静，可以读取和刻录dvd-ram碟片，但我发现这款和华硕那款同价位的造型都一样，功能也一样，怀疑是同一间厂生产。
读盘非常流畅，用起来非常舒适，非常好，性能实用，外观漂亮，很好的宝贝，推荐大家来买。适用于各种领域，总结起来一个字：好！！！不好的话我是不会买的，只要我买的东西都是挑好的，只买好的有用的，非常推荐！！！
买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度：8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音：很小 稳定性能：供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度：正常光驱大小 产品包装：完好、简洁 需要还会光顾?
照相机拍摄的照片是印在纸片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件
光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形
光刻机性能指标光刻机主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等
光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术
国产的光刻机已形成了一条完整的产业链条，成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体，双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功，如今国内企业在光线折射技术方面的突破，无疑将补上最后的短板，期待国产光刻机的量产
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