由于要实现更精细的工艺节点,光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条,而这个初始光源就显得尤为重要了
EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线,这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的
而得到这个光的方法,不亚于用乒乓球打苍蝇,而且是每秒要打五万次,次次都得击中
光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说,这个光刻机中有10万多个零件,其中90%的关键设备都来自其他国家,该公司只负责整机设计和各模块集成
可以看出,想制造光刻机仅有核心技术是不够的,因为许多零件都要依靠进口,在这种情况下,想独立制造,肯定是极难做到的
投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机,就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动,将芯片的“最小工艺”节点再次拔高
第五代EUV光刻机,就是现在各国追求的尖端光刻机
因为这个光刻机,已经将最小工艺节点推向了一个“极限”
全世界仅两个国家掌握技术
是正品,速度快,刻盘稳定,稳定才是王道,不会坏盘,很满意。买给客户的,对方很满意,刻录速度比较快,声音小,很实用
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光刻机和刻蚀机的关系
尤其是在前期研发并无法量产的情况下,几个亿砸进去就像是石子落入大海一样,有时候连个“响”都听不见
光刻机的研发难度难以想象因此,不少国家在衡量了利弊之后,还是选择了直接进口
毕竟想靠着自己研发并且生产,实在是太费劲儿了
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可能等到光刻机的制造难度再降低一些,未掌握核心技术的国家才会选择继续研究
值得一提的是,由于各国之间存在“政治博弈”,所以我国的芯片制造领域一直面对着很大的难题
正在研发国产光刻机我国光刻机研发面临的挑战首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术,从光刻机的发展历程就能看出,它对于工艺节点的要求越来越高
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