在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
国产90nm的光刻机
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
很棒的机器，收到后就连刻四张CD，全部成功，播放音质震撼，和原版没有区别。上午到货，自营的商品物流就是快。放了一张盘，声音很小，很安静，手里没有空白盘，未尝试刻录功能。
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！
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前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
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中国不能开发光刻机吗
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先锋刻录机的质量非常好，2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱，现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱，我再次选择了先锋。这款光驱性能很好，刻录时噪音很小，运行平稳，我非常满意！