可实现22纳米工艺制程
一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题
具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上，然后探针表面的电子就会有序的震荡，从而激发产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形
而ASML的光刻机，是将激光束经过一些列反射整形后，过滤掉衍射，然后投射经过光刻模板，再投射到硅片上
我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程
在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工
先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中
它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义
因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光，它可以制造7nm以下的芯片，使用的是13.5nm波长的光源
以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分，这个福利真好真好，妥妥每次都写100多字，这 是第N次在网上买东西，棒棒棒！很厉害，好便 宜，而且质量很不错，物美价廉买得放心，用得开 心，现在购物已经是每天的必做的事了，买买买根 本停不下来，东西品种多，分类清晰，超级划算而 且方便，主要是还实惠，包装设计很好，并且没有 损坏，希望卖家可以一直保持】，这是一个好评模 版，因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的，希望能帮到要写详细评论的亲们。
稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻
我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进
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上海大学光刻机
2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米