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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机的艰难往事中国光刻机生产商

国产光刻机的艰难往事中国光刻机生产商

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回顾中国光刻机过去60年间的发展,前20年,在科研人员夜以继日的攻关下,中美光刻差距被缩短到了7年,中间十几年,因为种种原因国内外的光刻机差距越拉越大,直到2000年后面对断供威胁,以及与国外的恐怖差距,国产光刻机再次开始奋力追赶

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参考文献:1.中国曾经的光刻机研发与徐端颐,章正远2.国产光刻机五十年:星星之火,可以燎原?陈辰3.中国芯往事:熬过多少苦难,才能实现追赶和超越?戴老板4.中国科学院109厂阶段(1958-1986年)之二,中国科学微电子研究所5.【中国科学报】为祖国绘制科技蓝图——中国科学院学部成立60周年特别报道之一,丁佳6.GK—3型半自动光刻机工作原理及性能分析,刘仲华7.光刻机座谈会在江苏吴县召开,半导体设备8.我国自行设计制造的 KG-3 型半自动光刻机在沪通过鉴定,徐鑫培9.光刻技术六十年,陈宝钦THE END

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国产光刻机的艰难往事中国光刻机生产商

进入80年代后,国产光刻机研发捷报频传

1980年,清华大学徐端颐团队经过没日没夜的攻关,终于研制出分布式投影光刻机

1985年,中电科45所研制出的至此,中美光刻机技术差距不过7年

日后将称霸光刻机领域的阿斯麦,此时才刚刚诞生

新中国对半导体的重视并不算晚,但发展过程却充满艰辛

一方面是我们本身底子就薄,另一方面是美国主导的“巴统”,对华实行封锁禁运,中国拿不到任何国外的技术资料

外部的封锁,再加上种种波折,中国光刻机研发落后在所难免

但是这么多重点,主要应该抓哪些呢?最终四个国际上发展很快,而我国还处于空白的领域,成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”,其中之一,便是半导体

1961 年,美国GCA 公司制造出了第一台接触式光刻机

关于我国最早的光刻机,有一种说法是1966年,中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机

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