ASML 公告还透露，公司的 EUV 高 NA 业务中，已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台
这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000 程序的重要一步
此前据 BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议
ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元
中国高端光刻机新进展
IT之家 7 月 20 日消息，光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据
ASML 表示，净利润较高的原因是新订单量创历史新高，因为尽管有迹象表明销售放缓，但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备
根据路孚特数据，ASML 第二季度收入超过分析师预期的 52.8 亿欧元，而利润低于预期的 14.4 亿欧元
High-NA EUV 是下一代光刻设备，与现有的 EUV 光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元（约 25.85 亿元人民币），是现有 EUV 光刻设备的两倍
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ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象，但我们仍然看到对我们系统的强劲需求
虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统，但供应链限制的增加导致出现了延迟
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ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益
IT之家了解到，ASML 主导着光刻系统市场，客户包括所有主要芯片制造商，其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户
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