全球抛弃EUV光刻机
ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭
首先是ASML跪舔的美国抛弃了它
美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍
此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收
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上海微的光刻机
随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽，ASML正陷入窘境，这一切都与ASML跪舔美国有关
然而如今却是美国率先背叛ASML，然后日本再施加压力，台积电等无力大规模采购EUV光刻机，最终导致了ASML陷入如今的窘境，可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取
事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器，研发先进工艺有了更多途径，ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃，如果没有了EUV光刻机带来的厚利，ASML将再度回到20年前艰难求生的日子，对此它或许已经后悔不迭了吧？
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再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本
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