ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好
德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学
所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态
而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的
刻录机包装完好无损，外观设计漂亮，性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥！包装很完整，做工也不错，入手很轻，读盘顺畅，还没试着刻盘
曝光系统被置于真空罩中
在这个系统里，最核心的投影光学部分（MET projection optic）主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术，而这些也是长春光机所02专项的核心工作
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物
而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队
好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞
全世界光刻机技术
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。
读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！
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