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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机往事:难,可代替光刻机的技术

如果再在审批过程中适当拖延一下,中国能拿到的,只怕落后三代不止

  在中国必须掌握集成电路的主动权的战略重视下,国产光刻机还是艰难地重新起步——曾经研发出投影光刻机的45所,被调至上海微电子,他们的任务是100nm以下光刻机的研究

  2007年,上海微电子宣布研制出90nm工艺的分布式投影光刻机

由于这台机器大部分元器件国外的,西方国家立即实行了禁运

辛苦研制的光刻机,迟迟无法量产又成为了摆设

  2008年,国家又成立“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”(02专项)

  人的潜力,在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致

  没有资料,只能靠自己摸索,徐端颐和团队成员边干边学,没日没夜地加班攻关,终于在1980年造出国内第一台投影光刻机

  1985年,中科院45所在光刻机领域取得了重大进展,研制出分步投影式光刻机,被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准

上海微电子披露:有望在2022年交付一台28nm工艺国产光刻机

尽管这和7nm、5nm仍隔着数代距离,但是差距已经大大缩小

  回想新中国成立之初,一没资金、二没产业基础,三没人才储备,国产光刻机愣是做到了紧跟世界先进水平

  2019年5月,美国突然宣布对华为制裁,并且很快将制裁范围从芯片扩展到更多领域,其中最重要的一个就是,限制国际领先光刻机对华销售

  【4】持续突破  2019年6月3日,一架波音C-32A飞机降落在荷兰首都阿姆斯特丹,专机里坐着的是时任美国国务卿蓬佩奥,美国政坛二号人物

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可代替光刻机的技术

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国产光刻机往事:难

国产光刻机往事:难,可代替光刻机的技术

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