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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机事业已到尽头,duv和euv光刻机

ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了,这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平,以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米,再先进工艺就得另寻它法

非常好用的刻录机。现在很多电脑都没有光驱了,所以要买这种外置光驱来读取光盘。因为工作需要没办法;已经买了几个了;人多所以用不过来,就买了好几个。基本在200多的价钱吧;有时候有活动会便宜十几二十块,性价比还是很高的!满意!

读盘非常流畅,用起来非常舒适,非常好,性能实用,外观漂亮,很好的宝贝,推荐大家来买。适用于各种领域,总结起来一个字:好!!!不好的话我是不会买的,只要我买的东西都是挑好的,只买好的有用的,非常推荐!!!

非常小巧的产品,出乎意料特别的轻,有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的,质量自然刚刚的,过去一直使用这个品牌,今次也不例外。声音很安静,基本没有振动,当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙,移动方便。

光刻机事业已到尽头,duv和euv光刻机

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯释放善意,与此前的态度截然不同,让人摸不着头脑,直到近期它的高管发言或许能解释这一原因,中国市场已成为它最后的蛋糕了,能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限,继续升级不太可能;另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增,这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求,而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E

稳定性能:不错 读盘速度:很快 外形外观:还好 轻薄程度:适中 产品包装:精美 读盘声音:很轻

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场,韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场,它们目前都希望中国企采购更多芯片,帮助它们解决芯片库存,确保现金流,为此甚至不惜大举降价抛售,与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比,这不免让人感叹一年河东、一年河西

光刻机事业已到尽头

随着光刻机变得更加负责,光刻机的耗电也在激增,业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平,每天耗电量将达到4.8万度电;如今台积电仅是推进至5nm工艺,它消耗的电力已占中国台湾省的8%,业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%

duv和euv光刻机

读盘速度:速度很快,先锋还是很不错的 读盘声音:声音很轻柔 稳定性能:刚上机,目前来说还是很稳定的,不出意外应该会很稳定的 轻薄程度:很简洁,做工挺不错的 外形外观:京东的物流向来是很给力,外观很板正,毕竟是大品牌,还是不错的 产品包装:没有任何磕磕碰碰,盒子包装都没有划痕,很给力不错

先锋外置刻录机很快到货,还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机,挺好用。不是第一次买了,这个品牌真是刻录机中的第一品牌,上一个用了5年,终于到年头可以换了,好用的很!好评!

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