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光刻机_雕刻机_曝光系统

俄罗斯建议荷兰用光刻机换口罩,2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

此前就有调侃说,一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机

此前Intel表示自己是全球第一下单的客户,台积电也跟进了,三星和SK海力士则尚未表态

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非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了,没有任何问题。

对于High-NA EUV技术之后的技术方案,ASML正在研究降低波长,但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA,可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方,其制造和使用成本都高得惊人,且不一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

使用了几次,才来评价,全五星全五分好评!质量不错,读盘速度挺快,同时购买了一款外置的,这个还没有用过过。相信先锋品牌的质量,相信京东自营货物品质。

俄罗斯建议荷兰用光刻机换口罩

读盘速度:很快,关键是稳,8倍速,蓝光的 读盘声音:声音很轻,可以说用细微来形容 稳定性能:8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度:很轻薄,很便携,非常好 外形外观:小巧,低奢而大气 产品包装:产品的包装很好,两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空,极大地避免了震动!

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末正式商用

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片的性能仍在稳步提升,有的是从架构上找到了创新,有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出,其中有一部分产品选择了走大规模路线,比如苹果的M1 Ultra

这种方式虽然增加了功耗,但对于那些对功耗并不敏感的产品来说,似乎也是可行的一种思路,那么我们真的有必要用到更贵的高NA EUV光刻机进一步提升密度吗?这个问题的答案其实不言而喻了,英特尔、台积电等晶圆提前预订的高NA EUV光刻机订单已经证明了它的重要性

挺不错的,物美价廉到货快,之前在京东买过两台同款的,确实很不错,这次趁活动再买三台囤着备用,还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟,然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后(没飞过盘,只是刻录速度变慢),实体店买过两台某星的,那真是一塌糊涂,各种飞盘,刻录出来的数据面颜色都不均匀,也很难读取,没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了,就买回先锋的,就这款,刻录声音很小,出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了,但质量确实没有缩水,这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的,应该还会再买。

回来就试了一下,挺好,声音超级小,耳朵贴上去才能听到声音,好评!东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机,大概会在明年某个时间点完成

据悉,High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电,从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源,High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦,ASML还使用水冷铜线为其供电

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