大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”
但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题
那么，除了ASML这个大公司，我们还有其他的选择吗？其实，最近我们就有了新的选择
据悉，最近日本企业“佳能公司”正在筹备建设新工厂，并且根据放出的消息称：佳能公司旨在以更低的成本制造出更先进的下一代光刻机
很多专家预测，佳能公司的新光刻机可能是2021纳米压印光科技的升级版，能够实现14nm芯片的量产
EUV光刻机突破出货限制
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国产光刻机打破技术封锁
显然，以我们目前的情况来说，还是第二种选择更符合实际
一直以来，我们都十分希望尽快ASML公司的光刻机，但是在美国技术的限制下，美国并不允许将含有自己技术的产品出口给中国市场，这就导致了我们再也不能从ASML公司进口高端光刻机了
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这两年，基于光刻机的新市场规则，我国很难再从国外进口到先进的EUV光刻机，如今虽然美国对ASML公司松口了，允许ASML公司出口光刻机了，但是只是一些中低端产品，我们并不需要
那么，在缺少高端光刻机的情况下，我们到底该怎么做呢？我们只有两大选择，一是自己研发制造出高端的国产光刻机，二就是在国际上寻求不含美国技术的光刻机
并且，中企和佳能企业之前就有了友好合作，我们也曾进口过他们的光刻机，如今我们对EUV光刻机需求大张，佳能公司必然会瞄准这一时机，想要狠狠的赚上一笔，毕竟单从公司角度考虑，哪家公司的目的不是为了赚钱盈利呢？况且两家企业又没有什么矛盾，合作愉快是理所应当的