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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML最新光刻机曝光:20亿一台,成都光电所 光刻机

物流很快,东西也不错。。。目前读盘很好,刻录还没有用呢,手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

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而要生产2nm的芯片,数值孔径要变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号,就叫做EXE:5200,目前ASML已经有了规划,预计在2024年底,或者2025年交付

质量非常好,与描述的完全一致,非常满意,很喜欢,完全超出期望值,发货速度非常快,包装非常仔细、严实,送货师傅服务态度很好,送货速度很快,很满意!

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ASML最新光刻机曝光:20亿一台

众所周知,制造7nm及以下工艺的芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年,就推出第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D

刻录机现在很少用到了价格也是超便宜。买一个来读一些以前的碟。小孩的巧虎也能播一下。还没试用,应该都没啥问题的了。先锋的刻录机以前一直用。没想到现在还在卖,和索尼两分天下。图它比索尼便宜20块,选了先锋。送了一条sata数据线,挺好的。

第一次买刻录机,担心尺寸和电脑不符,买回来可以装,很高兴,质量很好,京东的客服人员也非常好,遇到问题还亲自打电话过来帮我解答,让我没有后顾之忧,有一些不懂还要继续学习性价比很不错,是正品,包装也很结实。 稳定性能:好 产品包装:好 外形外观:好

不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm

而基于0.55NA数值孔径的光刻机,光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍,其处理晶圆能力每小时处理220片12寸晶圆左右,真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家,当然只有台积电三星、英特尔三家才有资格购买,其它的晶圆厂,能够买到0.33NA的EUV光刻机,就已经非常不错了,不要想这种0.55NA的

买回来当CD机用,非常好用,音质很好,先锋光驱不错哦,高颜值,高品质,非常好,一分钱一分货,材质外观和质量一看就很上档次,非常喜欢

一小时处理220片12寸的晶圆,其产能多大?如果是苹果A16这样的芯片,一块晶圆可以切割600块左右,理论一台这样的光刻机,一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面,ASML表示,其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元(约合20亿元人民币)

商品质量不错,物流也很快,好评。满意,静音,速度快,稳定。非常满意

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