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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源安芯半导体光刻机有限公司

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更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目:六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是,与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的,还有一个国家项目“极紫外光刻机核心系统关键技术攻关”

2005年美国加州劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具因此,从这一非常具体的实例来作为比较,并且只从曝光工具的单一指标(我们忽略系统性工作能力、技术储备、制造工具储备等)而言,我们在2017年的02专项极紫外曝光光学验收成果,接近2005年劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具的曝光线宽

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极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国现阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力

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一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前,ASML的一台ADT工具,便坐落在纽约州立大学工学院,也就是帕特里克·诺洛(Patrick Naulleau)当时工作的单位

这套价值6500万美元设备信息,至今仍然挂在纽约州立大学理工学院(SUNY POLY)的主页,这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱

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