南大光刻机进场
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了，没有任何问题。
之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。
读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
应急买来用，很棒，安装方便，没有什么难度，用起来很好，下次还会购买，东西很好，推荐给大家，算是一个很好的配角，声音小，性能稳定
能生产几纳米的芯片?答案或是22nm
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了